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下列物质中均含有少量的括号内的杂项,试用一种试剂将杂质除去:
 除杂质试剂反应方程式
NaOH(Na2SO4)溶液  
KNO3(K2CO3)溶液  
CO(CO2  
H2(HCl)气体  
考点:物质除杂或净化的探究,常见气体的检验与除杂方法,盐的化学性质,书写化学方程式、文字表达式、电离方程式
专题:物质的分离、除杂、提纯与共存问题
分析:根据原物质和杂质的性质选择适当的除杂剂和分离方法,所谓除杂(提纯),是指除去杂质,同时被提纯物质不得改变.除杂质题至少要满足两个条件:①加入的试剂只能与杂质反应,不能与原物质反应;②反应后不能引入新的杂质.
解答:解:要除去NaOH溶液中的Na2SO4,实质就是除去硫酸根离子,可利用Na2SO4溶液与氢氧化钡反应生成硫酸钡沉淀和氢氧化钠溶液,然后过滤即可,能除去杂质且没有引入新的杂质,符合除杂原则,反应的化学方程式为:Ba(OH)2+Na2SO4=BaSO4↓+2NaOH.
要除去KNO3溶液中的K2CO3,实质就是除去碳酸根离子,可利用K2CO3溶液与稀硝酸反应生成硝酸钾、水和二氧化碳,能除去杂质且没有引入新的杂质,符合除杂原则,反应的化学方程式为:K2CO3+2HNO3=KNO3+H2O+CO2↑(合理即可).
CO2能与氢氧化钠溶液反应生成碳酸钠和水,CO不与氢氧化钠溶液反应,能除去杂质且没有引入新的杂质,符合除杂原则,反应的化学方程式为:CO2+2NaOH═Na2CO3+H2O.
HCl能与氢氧化钠溶液反应生成氯化钠和水,H2不与氢氧化钠溶液反应,能除去杂质且没有引入新的杂质,符合除杂原则,反应的化学方程式为:HCl+NaOH=NaCl+H2O.
故答案为:
除杂质试剂反应方程式
NaOH(Na2SO4)溶液氢氧化钡溶液 Ba(OH)2+Na2SO4=BaSO4↓+2NaOH 
KNO3(K2CO3)溶液稀硝酸 K2CO3+2HNO3=KNO3+H2O+CO2↑(合理即可) 
CO(CO2 氢氧化钠溶液CO2+2NaOH═Na2CO3+H2
H2(HCl)气体氢氧化钠溶液 HCl+NaOH=NaCl+H2
点评:物质的分离与除杂是中考的重点,也是难点,解决除杂问题时,抓住除杂质的必需条件(加入的试剂只与杂质反应,反应后不能引入新的杂质)是正确解题的关键.
练习册系列答案
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化学学习小组做实验时记录了下列实验现象,其中正确的是(  )
A、木炭在氧气中燃烧,发出红色的火焰,产生使澄清石灰水变浑浊的气体
B、红热的细铁丝在氧气中剧烈燃烧,火星四射,有黑色固体生成
C、红磷在空气中燃烧,产生大量白色烟雾
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下列分子的示意图中,“●”表示氢原子,“”表示氧原子.

请根据上图回答下列问题:
(1)其中表示为化合物的分子是图
 
(填编号),图
 
(填编号)是由分子构成的是混合物.
(2)写出图①中所示的物质转变成图②中所示物质的化学方程式
 

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如图所示,实验不能用“分子在不停地运动”解释的是(  )
A、
闻气味
B、
刻出划痕
C、
检查气密性
D、 
酚酞变红

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在实验室易燃品橱柜里有一瓶失去标签的试剂某同学为探究其成分,进行如下实验分析:取4.6克该物质,使其充分燃烧,只生成5.4克水和8.8克二氧化碳,请你通过计算填空:
(1)该物质中含有氢元素
 
克,含碳元素
 
克;
(2)该物质中
 
(填“含”或“不含”)有氧元素;若含有氧元素,其所含氧元素的质量为
 
g.(若不含氧元素,此空不填)

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Si是重要的半导体材料,半导体工业中有一句行话“从沙滩到用户”,指的是利用砂子(主要成分SiO2)制取高纯度的Si,其主要化学反应如下:
①2C+SiO2
 高温 
.
 
Si(不纯)+2CO↑
②2Cl2+Si(不纯)
 加热 
.
 
SiCl4
③SiCl4+2H2
 高温 
.
 
4HCl+Si(高纯)
下列说法不正确的是(  )
A、①的目的是将二氧化硅转化成单质硅
B、②③的目的是除去单质硅中混有的杂质
C、上述反应中涉及到2个置换反应
D、上述反应中各元素的化合价都发生了变化

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下列变化中,发生了化学变化的是(  )
A、酒精挥发B、石蜡熔化
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请回答下列问题:
利用上述仪器和药品实验室可制取的气体是
 
(填写化学式),用化学方程式表示制取该气体的化学反应原理
 
,制取该气体所选择的仪器是(填仪器序号)
 

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