精英家教网 > 初中化学 > 题目详情
从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答下列问题:
(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如图所示,其中表示硅元素的是
B
B
(填字母).
(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,常温下硅的化学性质
不活泼
不活泼
(选“活泼”、“不活泼”).
分析:(1)地壳里含量前四位的元素:氧元素、硅元素、铝元素、铁元素;
(2)根据元素的性质与原子结构中最外层电子数目的关系分析.碳原子和硅原子最外层电子数均为4,其化学性质相似,不易得电子,也不易失电子,故不活泼.
解答:解:(1)因为硅元素在地壳里含量是第二位.所以,表示硅元素的是故选B;
(2)由于碳元素的化学性质不活泼,而硅元素的最外层电子数与碳相同,则其化学性质也应较稳定,故常温下硅的化学性质不活泼;
故答为:(1)B;(2)不活泼.
点评:学会结合课本知识,学会进行知识的大胆迁移的方法;掌握地壳中元素的含量和分布.
练习册系列答案
相关习题

科目:初中化学 来源: 题型:

从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答-下列问题:
(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如右图所示,其中表示硅元素的是
 
(填字母).
精英家教网
(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质
 
(选填“活泼”、“不活泼”).
(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如下:
精英家教网
①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是
 

②由粗硅制取三氯甲硅烷的化学方程式为
 

③在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是
 
;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是
 

查看答案和解析>>

科目:初中化学 来源: 题型:

从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答下列问题:
(1)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质
不活泼
不活泼
(填“活泼”或“不活泼”).
(2)硅在自然界中含量比较丰富,主要以硅酸盐和石英砂存在于地壳中,石英砂的主要成分是二氧化硅,请写出二氧化硅的化学式
SiO2
SiO2

(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如图:

①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是
爆炸
爆炸

②在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是
HCl
HCl
;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是
H2
H2

查看答案和解析>>

科目:初中化学 来源: 题型:

从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答下列问题:
(1)硅元素在地壳里的含量(质量分数)仅次于
元素.在地壳中常以+4价氧化物的形式存在,写出该氧化物的化学式
SiO2
SiO2
;已知硅元素的原子结构示意图为,从中不能获得的信息是

①硅原子的质子数为14  ②常温下,硅的化学性质不活泼
③硅原子有3个电子层  ④硅的相对原子质量为28
(2)制备硅半导体必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法:SiHCl3+H2 
1084℃
 Si+3X.那么X的化学式是
HCl
HCl

查看答案和解析>>

科目:初中化学 来源: 题型:

从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答下列问题:
(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如图所示,其中表示硅元素的是
B
B
(填字母).
(2)根据元素周期表可知,硅的原子序数为14,则其原子最外层电子数为
4
4

查看答案和解析>>

同步练习册答案