晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:
①高温下用过量的碳还原二氧化硅制得粗硅,同时得到一种可燃性气态;
②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl
3(Si+3HCl=SiHCl
3+H
2)
③SiHCl
3与过量的H
2在1000℃~1100℃反应制得纯硅,已知SiHCl
3能与水强烈反应,在空气中易自燃.请回答:
(1)第一步制取轨的化学方程式
.
(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl
3(沸点33.0℃)中含有少量SiCl
4(沸点57.6℃),提纯SiHCl
3可采用
蒸馏
蒸馏
的方法.
(3)实验室用SiHCl
3与过量的H
2反应制取纯硅装置如图所示(加热和夹持装置略去):
①装置B中的试剂是
浓硫酸
浓硫酸
,装置C需水浴加热,目的是
使SiHCl3气化,与氢气反应
使SiHCl3气化,与氢气反应
.
②反应一段时间后,装置D中可观察到有晶体硅生成,装置D不能采用普通玻璃管的原因是
SiHCl3与过量的H2在1000℃~1100℃反应制得纯硅,温度太高,普通玻璃管易熔化
SiHCl3与过量的H2在1000℃~1100℃反应制得纯硅,温度太高,普通玻璃管易熔化
,D中发生的反应的化学方程式是
SiHCl3+H2=Si+3HCl
SiHCl3+H2=Si+3HCl
.
③为保证实验的成功,操作的关键除题中已告知的之外,你认为最重要的还有:
装置要严密
装置要严密
,
控制好温度
控制好温度
.(答出两点)