晶体硅(Si)是一种重要的半导体材料．冶炼硅时常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅.反应的化学方程式是:SiO2+2C Si+2CO↑.现要制备含硅14kg的粗硅.理论上可以同时生成一氧化碳的质量是多少? 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

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晶体硅（Si）是一种重要的半导体材料．冶炼硅时常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅，反应的化学方程式是：
SiO₂+2C

Si+2CO↑，现要制备含硅14kg的粗硅，理论上可以同时生成一氧化碳的质量是多少？

28kg

试题分析：设理论上可以同时生成一氧化碳的质量是x，
SiO₂+2C

Si+2CO↑
28 56
14kg x

x=28kg
答：理论上可以同时生成一氧化碳的质量是28kg．

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用足量的CO还原4．0g某种铁的氧化物，生成的气体全部被足量的澄清石灰水吸收，得到沉淀7．5g，则这种铁的氧化物可能是

A．FeO

B．Fe₂O₃

C．Fe₃O₄

D．FeO与Fe₂O₃的混合物

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（2013黑龙江大庆）以下是中学常见的实验装置图（图1）

（1）实验室用锌粒和稀硫酸反应制取氢气，要制备并收集干燥的氢气，请将所选装置接口按从左到右顺序连接为      。
（2）实验室制取氧气有多种方法。
a，用KMnO₄制氧气应选用      作为发生装置（填装置序号）。检验该装置气密性的方法是        。
b．如用H₂O₂溶液制氧气，除H₂O₂溶液外还需要加入的试剂是        （填名称）。如图2是实验室制备气体的一种装置图，该装置的特点是：打开弹簧夹，块状固体和液体接触，反应发生；关闭弹簧夹后，产生的气体将液面压回，使固体和液体分开，反应停止。用H₂O₂溶液制氧气时，       （填“可以”或“不可以”）采用此装置。
c．实验室还用KClO₃来制备氧气，该反应的化学方程式为              。将KClO₃与MnO₂的混合物ag加热一段时间，得到bg固体，将得到的固体溶于水，过滤、洗涤、干燥后，又得到cg固体，则KCl0₃的分解率为               。（用含a，b．c的式子表示）（提示：KCl0₃的分解率是指已分解KClO₃质量与原加入KClO₃质量之比）

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科目：初中化学 来源：不详 题型：单选题

一氧化碳和二氧化碳的混合物10克，通过足量的炽热的氧化铜，充分反应后所得气体的质量为11．6克，则原混合物中二氧化碳的质量为（）

A．5．6克

B．4．4克

C．7．2克

D．2．8克

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科目：初中化学 来源：不详 题型：填空题

Ⅰ．实验室用30%的双氧水溶液配制100g溶质质量分数为6%的双氧水溶液，需要加入水的体积为        mL。(水的密度为1g/mL)
Ⅱ．某兴趣小组取150克双氧水溶液在3克二氧化锰的作用下反应，反应一段时间后测得容器中剩余物质的总质量为149．8克。试计算：
（1）该实验中生成氧气的物质的量       摩尔。
（2）参加反应的双氧水的物质的量      。（根据化学方程式列式计算）

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