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    地壳里各种元素的含量(质量分数)中，含量最多的元素是               元素，含量最多的金属元素是              元素，含量最多的非金属元素是             元素。
    氧；铝；氧
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    科目：初中化学 来源： 题型：

    从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答-下列问题：
    （1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如右图所示，其中表示硅元素的是
     
    （填字母）．
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    （2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质
     
    （选填“活泼”、“不活泼”）．
    （3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：
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    ①整个制备过程必须达到无水无氧．在H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是
     

    ②由粗硅制取三氯甲硅烷的化学方程式为
     
    ．
    ③在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是
     
    ；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是
     
    ．

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    科目：初中化学 来源： 题型：

    2、地球是人类的家园．地壳里各种元素的含量差别很大，按质量计，含量最多的元素是（　　）

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    科目：初中化学 来源： 题型：

    （2009?南京）从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答-下列问题：
    （1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如右图所示，其中表示硅元素的是
    B
    B
    （填字母）．
    （2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质
    不活泼
    不活泼
    （选琐“活泼”、“不活泼”）．
    （3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：

    ①整个制备过程必须达到无水无氧．在H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是
    爆炸
    爆炸
    ．
    ②在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是
    HCl
    HCl
    ；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是
    焦炭
    焦炭
    ．

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    科目：初中化学 来源： 题型：

    从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答下列问题：
    （1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如图所示，其中表示硅元素的是
    B
    B
    （填字母）．
    （2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，常温下硅的化学性质
    不活泼
    不活泼
    （选“活泼”、“不活泼”）．

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    科目：初中化学 来源： 题型：

    （2012?沙县质检）地壳里各种元素的含量（质量分数）如图所示，根据图中信息回答：
    （1）图中显示的元素中，属于非金属元素的有（用元素符号表示，只要写一个）：
    O
    O
    ；
    （2）图中显示的金属元素中，其金属活动性由强到弱的顺序是：
    K、Ca、Na、Mg、Al、Fe
    K、Ca、Na、Mg、Al、Fe
    （用元素符号表示）；
    （3）限以图中的元素为例，写出符合下列要求的物质的化学式（各写一个）：
    ①气态非金属单质
    O2
    O2
    ，②氧化物
    H2O
    H2O
    ，③碱
    NaOH
    NaOH
    ．

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