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    反应2C+SiO2
    高温
    Si+2CO↑中的还原剂是（　　）
    A．CB．SiO2C．SiD．CO
    在反应2C+SiO2
    高温
    Si+2CO↑中二氧化硅在反应中失去氧元素，被还原，是氧化剂；碳在反应中得到氧元素，被氧化，是还原剂．
    故选A．
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    科目：初中化学 来源： 题型：

    芯片是电脑、“智能”加点的核心部件，它是用高纯度硅制成的．下面是生产单质硅过程中的一个重要反应：SiO2+2C
     高温 
    .
     
    Si+2CO↑，该反应的基本类型是（　　）
    A、化合反应B、分解反应
    C、置换反应D、复分解反应

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    科目：初中化学 来源： 题型：

    2010年上海世博会上，我国将展示出高纯度单硅高科技产品．硅的制取反应为2C+SiO2
    高温
    Si+2CO↑，有关该反应的说法中正确的是（　　）
    A、反应中CO是还原剂
    B、SiO2发生氧化反应
    C、反应为复分解反应
    D、反应为置换反应

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    科目：初中化学 来源： 题型：

    （2010?益阳）芯片是计算机的核心部件，它是由高纯硅制成的，下面是生产单质硅过程中的主要反应：
    ①SiO2+2c
     高温 
    .
     
    Si+2CO↑  ②Si+2Cl2
     点燃 
    .
     
    SiCl4  ③siCl4+2H2
      △  
    .
     
    Si+4HCl
    上述反应③的基本反应类型是（　　）

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    科目：初中化学 来源： 题型：

    （2010?海沧区质检）高纯硅是制造计算机电路芯片的主要原料．工业上用石英（主要成分为SiO2）制备粗硅的反应为SiO2+2C
      △  
    .
     
    Si+2R↑，下列说法错误的是（　　）

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    科目：初中化学 来源： 题型：

    晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：
    ①高温下用过量的碳还原二氧化硅制得粗硅，同时得到一种可燃性气态；
    ②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3（Si+3HCl=SiHCl3+H2）
    ③SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅，已知SiHCl3能与水强烈反应，在空气中易自燃．请回答：
    （1）第一步制取轨的化学方程式
    2C+SiO2
     高温 
    .
     
    Si+2CO↑
    2C+SiO2
     高温 
    .
     
    Si+2CO↑
    ．
    （2）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3（沸点33.0℃）中含有少量SiCl4（沸点57.6℃），提纯SiHCl3可采用
    蒸馏
    蒸馏
    的方法．
    （3）实验室用SiHCl3与过量的H2反应制取纯硅装置如图所示（加热和夹持装置略去）：

    ①装置B中的试剂是
    浓硫酸
    浓硫酸
    ，装置C需水浴加热，目的是
    使SiHCl3气化，与氢气反应
    使SiHCl3气化，与氢气反应
    ．
    ②反应一段时间后，装置D中可观察到有晶体硅生成，装置D不能采用普通玻璃管的原因是
    SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅，温度太高，普通玻璃管易熔化
    SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅，温度太高，普通玻璃管易熔化
    ，D中发生的反应的化学方程式是
    SiHCl3+H2=Si+3HCl
    SiHCl3+H2=Si+3HCl
    ．
    ③为保证实验的成功，操作的关键除题中已告知的之外，你认为最重要的还有：
    装置要严密
    装置要严密
    ，
    控制好温度
    控制好温度
    ．（答出两点）

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