Question

从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答下列问题：
（1）硅元素在地壳里的含量（质量分数）仅次于

氧

元素．在地壳中常以+4价氧化物的形式存在，写出该氧化物的化学式

SiO₂

；已知硅元素的原子结构示意图为，从中不能获得的信息是

④

．
①硅原子的质子数为14  ②常温下，硅的化学性质不活泼
③硅原子有3个电子层  ④硅的相对原子质量为28
（2）制备硅半导体必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法：SiHCl₃+H₂ 

1084℃

 Si+3X．那么X的化学式是

HCl

．

Answer 1

分析：（1）根据地壳中元素的含量可以知道，排在前四位的元素为：氧硅铝铁；根据化合物中正负化合价的代数和为0可以写出硅的氧化物的化学式，然后根据原子结构示意图的意义进行解答即可；
（2）根据质量守恒定律的实质进行解答．

解答：解：（1）根据地壳中元素的含量可以知道，排在前四位的元素为：氧、硅、铝、铁；根据化合物中正负化合价的代数和为0可以写出硅的氧化物的化学式为SiO₂，然后根据原子结构示意图的意义可以知道，图中可以得到的信息为：①硅原子的质子数为14  ②常温下，硅的化学性质不活泼
③硅原子有3个电子层，但是得不出硅的相对原子质量为28，故选④；
（2）根据质量守恒定律的实质可以知道反应前后原子的种类和数目相等，反应前：1个Si，3个H，3个Cl，反应后：1个Si，所以可以判断在3X中含有3个H，33个Cl，所以可以判断X的化学式为HCl．
故答案为：
（1）氧；SiO₂；④；
（2）HCl．

点评：学会结合课本知识，学会进行知识的大胆迁移的方法；掌握地壳中元素的含量和分布．