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    【题目】Si是重要的半导体材料，半导体工业中有一句行话“从沙滩到用户”，指的是利用砂子（主要成分SiO2）制取高纯度的Si，其生产流程如下：

    （1）步骤②发生反应的反应类型为。
    （2）步骤①产生的尾气会污染空气，该尾气处理的方法是。
    （3）步骤③中发生反应的化学方程式为。
    （4）步骤②、③都需要注意防潮，可能的原因是 (填字母序号)。
    A.硅能与水蒸气反应
    B.氢气能与水蒸气反应
    C.SiCl4能与水蒸气反应
    D.氯化氢能与水蒸气反应

    【答案】
    （1）化合
    （2）点燃
    （3）SiCl4 + 2H2 = Si + 4HCl
    （4）C
    【解析】（1）步骤②发生的反应是硅与氯气反应生成氯化硅，反应物是两种，生成物一种，属化合反应；（2）步骤①产生的尾气是一氧化碳，一氧化碳有毒，直接排放到空气中会污染空气，可通过点燃的方法除去；（3）步骤③中发生的反应是氯化硅和氢气在高温的条件下反应生成硅和氯化氢：SiCl4 + 2H2 = Si + 4HCl；（4）步骤②中的氯气能与水反应，步骤③中的SiCl4能与水蒸气反应，故要注意防潮。
    故答案为：化合；点燃；SiCl4 + 2H2 = Si + 4HCl；C

    化学反应“一边多”化合反应，一氧化碳具有可燃性，因此点燃可以除去；四氯化硅和氢气反应生成硅和氯化氢；根据题意可解答

    练习册系列答案
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    称量项目

    甲

    乙

    丙

    所取样品的质量/g

    15

    15

    20

    加入氯化钡溶液的质量/g

    150

    100

    100

    反应后所得沉淀的质量/g

    23.3

    23.3

    23.3

    请回答下列问题：
    （1）同学（选填“甲”“乙”或“丙”）所取用的样品与氯化钡溶液恰好完全反应．
    （2）计算该样品中硫酸钠的质量分数．（写出计算步骤，计算结果保留到0.1%）
    （3）若欲计算出样品与氯化钡溶液恰好完全反应时所得溶液的溶质质量分数，上述实验过程中还需要测定的数据是 ．

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    A. 分子具有质量 B. 分子可以分解为原子

    C. 分子在不断地运动 D. 分子间有间隔

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    （1）实验室完成操作1，用到的铁制仪器是。
    （2）你认为对气体C最佳的处理方法是。（ ）
    A.冷却后排入空气
    B.燃烧后排放
    C.再通入反应炉
    （3）在生成K2SO4的这个反应中，相关物质的溶解度如下表。

    物质

    KCl

    K2SO4

    NH4Cl

    (NH4)2SO4

    溶解度/g(20℃)

    34.2

    11.1

    37.2

    75.4

    你认为该反应在常温下能实现的原因是。
    （4）洗涤干燥得到K2SO4晶体时，可选用下列(填字母）洗涤剂；
    A.KCl的饱和溶液 B.水 C.K2SO4的饱和溶液
    为检验K2SO4晶体是否洗涤干净，可取最后一次洗涤液，先加入(选填序号，下同），振荡、静置，再向上层清液中滴加 ， 观察现象即可判断。（已知硫酸银在水中微溶，以沉淀形式存在）
    A.AgNO3溶液 B.过量的BaCl2溶液 C.过量的Ba(NO3)2溶液
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