2017年5月26日，Alpha Go人机配对赛开战，Alpha Go的芯片主要以高纯度的单质硅(Si)为原料制成。在半导体硅元件生产中，常用氢氟酸(HF)来清除硅表面的氧化膜，反应原理可表示为SiO2＋6HF=H2SiF6＋2X。已知硅元素显＋4价。下列说法错误的是(　　)

A.生成物X的化学式是H2O B.该反应是复分解反应

C.H2SiF6中氟元素显-1价 D.地壳中硅元素含量仅次于氧元素

下列常用仪器的操作方法正确的是

A.用酒精灯火焰直接加热烧杯

B.打开试剂瓶取用试剂后没及时盖瓶塞

C.给试管内固体加热，试管口略向下倾斜

D.取用试剂后将滴管清洗再放回原滴瓶

下列物质既是空气的成分，又属于氧化物的是（　　）

A.氧化铝 B.氧气 C.二氧化碳 D.稀有气体

新产品磨牙器能有效帮助去除牙齿表面的牙垢，磨牙器磨头采用50%橡胶与50%的金刚砂（主要成分为碳化硅）特制而成。已知碳化硅中碳元素显－4价，硅元素显＋4价，则碳化硅的化学式为

A. SiC B. Si2C3 C. Si3C2 D. SiC2

关于下列符号或图示的说法正确的是（ ）

A.①表示两个氧原子 B.由⑥可知铬的相对原子质量为52.00g

C.②和④均表示阳离子 D.③和⑤表示的元素在形成化合物时通常显-1价

下图中图1是t ℃时相同质量的甲、乙两物质同时放入100 g水中的溶解情况，图2是它们的溶解度曲线图，下列说法不正确的是（　　）

A.t2℃时，甲、乙两物质的溶解度相等

B.t2 ＞t＞ t1

C.若使图1中的甲全部溶解，可采用升高温度的办法

D.将t2℃时两物质的饱和溶液降低到t1℃时均有晶体析出

下列实验方案中，能达到实验目的的是（　　）

A.A B.B C.C D.D

对比实验是常用的实验方法。下列实验不能达到目的是（　　）

A.比较镁与铁的金属活动性

B.比较纯金属与合金的硬度相互刻划

C.探究同种物质在不同溶剂中的溶解性

D.验证的性质

下列图像与变化对应关系错误的是(　　)

A.碱溶液加水稀 B.通电分解水 C.煅烧石灰石 D.石灰水变质

如图是A、B、C三种固体物质的溶解度曲线，下列分析正确的是（　　）

A.20℃时等质量的A和C两种物质的溶液中溶质的质量相等

B.50℃时把50gA放入100g水中能得到A的饱和溶液，其溶质质量分数为50%

C.将50℃时A、B、C三种物质的饱和溶液都降温至20℃时，这三种溶液的溶质质量分数的大小关系是B＞A＝C

D.将C的饱和溶液变为不饱和溶液，可采用降温的方法