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【题目】硅是一种重要的半导体材料,应用范围广。三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程如图所示:
(1)硅属于__________(选填“金属”或“非金属”)元素;
(2)写出上述流程中一种氧化物的化学式:______________________;
(3)上述流程中最后一步反应的化学方程式为______________________________,该反应属于________(填基本反应类型)反应;
(4)如果还原SiHCl3过程中混入O2,可能引起的后果是________________________;
(5)该流程中可以循环利用的物质的化学式是____________________。
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【题目】学校里有一种二氧化碳灭火器,如图,回答下列问题。
(1)图中属于有机合成材料的是________(填一种,下同),属于金属材料的是______;
(2)在使用此种灭火器时,手拿塑料柄而不能接触金属部位,原因是________;
(3)较活泼的金属钠着火时不能使用二氧化碳灭火器,因为钠在二氧化碳气体中可以燃烧生成碳酸钠和一种黑色单质,请写出化学方程式:_____________;
(4)报废灭火器中含有磷酸二氢铵(化学式为NH4H2PO4)可作________(选填字母)使用。
A.钾肥 B.磷肥
C.氮肥 D.复合肥
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【题目】春季里到处都洋溢着花的芳香,我们能闻到花的香味,从微观的角度解释,是因为( )
A.分子的质量和体积都很小 B.分子在不断运动
C.分子之间有间隔 D.分子由原子构成
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【题目】不含结晶水的甲、乙两种固体物质的溶解度曲线如图所示。下列说法正确的是
A. t1℃时,甲、乙饱和溶液中含溶质的质量相等
B. t1℃时,甲、乙两种物质各25g分别加入到50g水中,充分溶解,得到的溶液质量都是70g
C. t2℃时,甲溶液的溶质质量分数一定大于乙溶液的溶质质量分数
D. t2℃时甲、乙的饱和溶液降温到t1℃时,析出晶体的质量甲一定大于乙
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【题目】在点燃条件下,A和B反应生成C和D。反应前后分子变化的微观示意图如图所示。下列叙述中不正确的是( )
C是空气中体积分数最大的物质
B.A的水溶液能使无色的酚酞试液变红
C.在该反应中,生成C和D的质量比为14∶9
D.该反应的基本反应类型为置换反应
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【题目】下面是实验室制取氧气的装置图,根据装置图回答下列问题:
(1)仪器b的名称是_____________
(2)用高锰酸钾制取氧气的文字表达式为______________;选用的发生装置是_____(填装置代号,下同),收集装置可以选用__________或选用_____收集。
(3)制取氧气前,必需先 __________ ,实验时应在试管口放一团棉花,其作用是_____________________;用排水法收集氧气的合适时机是_______________________。收集满氧气后,应用玻璃片盖住集气瓶口并正放在桌上。
(4)收集氧气可以用排空法或排水法,当用下面的装置进行收集氧气时,分析:当用F收集氧气时,氧气应该从_______管进入瓶中;当用G收集氧气时,氧气应该从_________管进入瓶中。
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【题目】一氧化氮是大气污染物之一,但少量的一氧化氮在人体内具有扩展血管、增强记忆的功能。通常状况下,一氧化氮密度比空气略大,极易与氧气反应,难溶于水。实验室收集一氧化氮的方法是 ( )
A. 向上排空气法 B. 向上排空气法或排水法
C. 向下排空气法 D. 排水法
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