硅单质及其化合物应用范围很广． (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.工业上可以按如下步骤制备纯硅． Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅 Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450℃-500℃条件下反应制得SiCl4 Ⅲ.SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100℃-1200℃条件下反应制得纯硅已知SiCl4沸点为57.6℃.能与H2O强烈反应.1 mol H2与SiCl4气题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

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硅单质及其化合物应用范围很广．

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅．

Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450℃～500℃条件下反应制得SiCl₄

Ⅲ.SiCl₄液体经精馏提纯后与过量H₂在1100℃～1200℃条件下反应制得纯硅

已知SiCl₄沸点为57.6℃，能与H₂O强烈反应.1 mol H₂与SiCl₄气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ.

请回答下列问题：

①第Ⅲ步反应的热化学方程式是______________________________________

_______________________________________________________________________。

②整个制备纯硅的过程中必须严格控制无水无氧．SiCl₄在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是____________；H₂还原SiCl₄过程中若混入O₂，可能引起的后果是____________．

③上述生产过程所需氯气和氢气均由氯碱厂提供，氯碱厂的基本设备是离子交换膜电解槽(如图所示)，其中进入阳极室的溶液是__________________________________，b电极上的电极

反应式是______________________________________________________．

（2）二氧化硅被大量用于生产玻璃．工业上用SiO₂、Na₂CO₃和CaCO₃共283 kg在高温下完全反应时放出CO₂ 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na₂SiO₃·CaSiO₃·xSiO₂表示，则其中x＝________。

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