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    （2008?广东）硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：
    （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

    ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
    SiHCl3+H2
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    .
     
    Si+3HCl
    SiHCl3+H2
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    .
     
    Si+3HCl
    ．
    ②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式
    3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
    3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
    ；H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是
    高温下，H2遇O2发生爆炸
    高温下，H2遇O2发生爆炸
    ．
    （2）下列有关硅材料的说法正确的是
    ABCD
    ABCD
    （填字母）．
    A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混
    B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
    C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高
    D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
    （3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡．写出实验现象并给予解释
    生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
    生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
    ．
    分析：（1）①氢气和纯SiHCl3反应生成高纯硅；
    ②SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和氢气，氢气易爆炸；
    （2）A．原子晶体化学性质稳定；
    B．原子晶体熔点高硬度大；
    C．盐熔点较高；
    D．硅与盐酸不反应．
    （3）SiO32-与NH4+发生双水解反应．
    解答：解：（1）①氢气和纯SiHCl3反应生成高纯硅和氯化氢：SiHCl3+H2
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    Si+3HCl，故答案为：SiHCl3+H2
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    .
     
    Si+3HCl；
    ②SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和氢气：3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl，氢气遇氧气易爆炸，故答案为：3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl；高温下，H2遇O2发生爆炸；
    （2）A．SiC和Si3N4均为原子晶体，熔点高，性质稳定，故A正确；
    B．SiC和Si3N4均为原子晶体，硬度大，熔点高，性质稳定，故B正确；
    C．普通玻璃的主要成分为Na2SiO3和CaSiO3，它是以石英砂（SiO2）、石灰石（CaCO3）和纯碱（Na2CO3）为主要原料反应制成的，熔点很高，故C正确；
    D．常温下，Si只能与唯一一种酸HF反应不与HCl反应，故D正确．
    故答案为：ABCD；
    （3）SiO32-与NH4+发生双水解反应生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，方程式：SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓，
    故答案为：生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓．
    点评：本题考查硅和二氧化硅的性质，题目难度中等，注意双水解时，可生成沉淀和气体．
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