【题目】下列物质的酸性强弱比较正确的是( )
A. HBrO4<HIO4 B. H2SO4<H3PO4 C. HClO3<HClO D. H2SO4>H2SO3
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【题目】元素周期律产生的根本原因就是随着元素原子序数的递增
A. 元素的相对原子质量逐渐增大
B. 核外电子排布呈周期性变化
C. 原子半径呈周期性变化
D. 元素主要化合价呈周期性变化
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【题目】放热反应CO(g)+H2O(g)CO2(g)+H2(g)在温度t1时达到平衡,c1(CO)=c1(H2O)=1.0 mol·L-1,其平衡常数为K1。升高反应体系的温度至t2时,反应物的平衡浓度分别为c2(CO)和c2(H2O),平衡常数为K2,则( )
A. K2和K1的单位均为mol·L-1
B. K2>K1
C. c2(CO)=c2(H2O)
D. c1(CO)>c2(CO)
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【题目】硫代硫酸钠晶体(Na2S2O3·5H2O,M=248 g·mol1)可用作定影剂、还原剂。回答下列问题:
(1)已知:Ksp(BaSO4)=1.1×1010,Ksp(BaS2O3)=4.1×105。市售硫代硫酸钠中常含有硫酸根杂质,选用下列试剂设计实验方案进行检验:
试剂:稀盐酸、稀H2SO4、BaCl2溶液、Na2CO3溶液、H2O2溶液
实验步骤 | 现象 |
①取少量样品,加入除氧蒸馏水 | ②固体完全溶解得无色澄清溶液 |
③___________ | ④___________,有刺激性气体产生 |
⑤静置,___________ | ⑥___________ |
(2)利用K2Cr2O7标准溶液定量测定硫代硫酸钠的纯度。测定步骤如下:
①溶液配制:称取1.2000 g某硫代硫酸钠晶体样品,用新煮沸并冷却的蒸馏水在__________中溶解,完全溶解后,全部转移至100 mL的_________中,加蒸馏水至____________。
②滴定:取0.00950 mol·L1的K2Cr2O7标准溶液20.00 mL,硫酸酸化后加入过量KI,发生反应: Cr2O72+6I+14H+3I2+2Cr3++7H2O。然后用硫代硫酸钠样品溶液滴定至淡黄绿色,发生反应:I2+2S2O32S4O62+2I。加入淀粉溶液作为指示剂,继续滴定,当溶液__________,即为终点。平行滴定3次,样品溶液的平均用量为24.80 mL,则样品纯度为_________%(保留1位小数)。
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【题目】NA表示阿伏加德罗常数,下列说法正确的是
A. 162g淀粉和纤维素混合物中氧原子的数目为5NA
B. 常温时,pH=5的盐酸中水电离的OH-数目为10-9NA
C. 5mol的CH3COONa固体溶于水所得溶液中CH3COO-数目为5NA
D. 22.4L Cl2与足量的铁反应,转移的电子数目为2NA
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【题目】在元素周期表中,某些主族元素与右下方主族元素的有些性质是相似的,被称为“对角线”规则,如:Li和Mg、Be和Al、B和Si。下列说法不正确的是
A. Li在N2中燃烧生成Li3N B. LiOH是极易溶的强碱
C. Be(OH)2既能溶于强酸又能溶于强碱溶液 D. 硼酸钠溶液显碱性
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【题目】为比较Fe3+和Cu2+对H2O2分解的催化效果,某化学研究小组的同学分别设计了如图甲、乙所示的实验.下列叙述中不正确的是( )
A. 实验中H2O2分解的速率为(1)>(2)
B. 图乙实验可通过测定相同状况下,产生的气体体积与反应时间来比较反应速率
C. H2O2分解的热化学方程式2H2O2(l)═2H2O(l)+O2(g)△H>0
D. 图甲中(1)、(2)两个实验中H2O2分解的△H相同
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【题目】半导体工业需要高纯硅,粗硅中含有SiO2、Fe2O3、CuO、C等杂质,提纯硅的方法比较多,其中三氯氢硅(有一定毒性)氢还原法和四氯化硅氢还原法应用较为广泛,下面是实验室模拟工业上三氯氢硅氢还原法的基本原理:
已知:①Si+3HCl SiHCl3+H2(主要反应)
Si+4HClSiCl4+2H2(次要反应)
2NaCl+H2SO4(浓)Na2SO4+2HCl↑
②典型硅的重要化合物的部分性质如下表:
熔点(℃) | 沸点(℃) | 溶解性 | |
SiHCl3 | -127 | 33 | 易溶于多数有机溶剂 |
SiCl4 | -23 | 77 | 易溶于多数有机溶剂 |
(1)粗硅在提纯前,需要进行酸、碱预处理,其目的是___________________________________。
(2)下列装置在实验室可用于制备HCl气体的是_____(填字母代号)。
(3)在1100~1200℃条件下,利用图B在石英管中可以获得硅,写出该反应的方程式_______;其烧杯中水的作用是__________________________;该装置使用石英管而不是普通玻璃管的原因是_________。
(4)三氯氢硅氢还原法用 SiHCl3在图B中制硅,不足之处有_______________(任意回答一点即可)。
(5)SiCl4与氢气反应也能得到硅,但反应所需温度不同,在工业上往往将三氯氢硅中混入的SiCl4分离后再与氢气反应,你认为最好的分离方法是______________。
(6)工业上如果用四氯化硅氢还原法制硅,其原理如下:该方法与用三氯氢硅氢还原法比较,其缺点至少有两处,分别是_________________。
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【题目】短周期主族元素R、W、X、Y、Z的原子序数依次增大,R的简单氢化物可用作制冷剂,X是短周期中金属性最强的元素。Y的简单离子在同周期元素的简单离子中半径最小,由W、X和Z三种元素形成的一种盐溶于水后,加入稀盐酸,有黄色沉淀(Z的单质)析出,同时产生有刺激性气味的气体(Z的氧化物)。下列说法正确的是( )
A. 原子半径:Z>Y>X>W
B. Z的简单氢化物的热稳定性比W的强
C. Y的氧化物既可溶于R的最高价氧化物对应的水化物水溶液,也可溶于R的氢化物水溶液
D. X与W、Z形成的化合物不少于三种
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