氯气用途十分广泛.可用于生产半导体材料硅.其生产的流程如下.下列说法不正确的是A．①③是置换反应.②是化合反应B．高温下.焦炭与氢气的还原性均强于硅的C．任一反应中.每消耗或生成28 g硅.均转移4 mol电子D．高温下将石英砂.焦炭.氯气.氢气按一定比例混合可得高纯硅题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

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氯气用途十分广泛，可用于生产半导体材料硅，其生产的流程如下，下列说法不正确的是（）

A．①③是置换反应，②是化合反应

B．高温下，焦炭与氢气的还原性均强于硅的

C．任一反应中，每消耗或生成28 g硅，均转移4 mol电子

D．高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅

在高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合，则石英砂与焦炭反应，氯气与氢气反应，就不再按照题干的流程进行，不会得到高纯硅。

练习册系列答案

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相关习题

科目：高中化学 来源：不详 题型：问答题

19.2g Cu与足量的稀硝酸完全反应，求：
（1）写出铜与稀硝酸反应的化学方程式______．
（2）反应后生成硝酸铜的物质的量______；
（3）参加反应的硝酸的物质的量______；
（4）标准状况下，生成NO气体的体积______；
（5）被还原硝酸的物质的量______．

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科目：高中化学 来源：不详 题型：填空题

硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础。回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号       ，该能层具有的原子轨道数为      、电子数为         。
（2）硅主要以硅酸盐、       等化合物的形式存在于地壳中。
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以        相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献       个原子。
（4）单质硅可通过甲硅烷(SiH₄)分解反应来制备。工业上采用Mg₂Si和NH₄CI在液氨介质中反应制得SiH₄，该反应的化学方程式为              。
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：

化学键	C-C	C-H	C-O	Si-Si	Si-H	Si-O
键能（KJ/mol）	356	413	336	226	318	452

①硅与碳同族，也有系列氢化物，但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多，原因是                。
②SiH₄的稳定性小于CH₄，更易生成氧化物，原因是                       。
（6）在硅酸盐中，SiO₄⁴^－四面体（如下图a）通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图b为一种无限长单链结构的多硅酸根；其中Si原子的杂化形式为            。Si与O的原子数之比为       化学式为   。

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科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

2013年我国载人飞船再次升空，显示出我国航天技术已进入世界一流。飞船应用了许多尖端的合成材料。据报道我国科学家近年来研制出一种新型“连续纤维增韧”航空材料，其主要成分是由碳化硅陶瓷和碳纤维复合而成的。下列相关叙述不正确的是(　　)。

A．它耐高温抗氧化

B．它比钢铁轻、硬，但质地较脆

C．它没有固定熔点

D．它是一种新型无机非金属材料

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科目：高中化学 来源：不详 题型：填空题

氮化硅可用作高温陶瓷复合材料，在航空航天、汽车发动机、机械等领域有着广泛的应用。由石英砂合成氮化硅粉末的路线如下图所示：

其中－NH₂中各元素的化合价与NH₃相同。请回答下列问题：
(1)石英砂不能与碱性物质共同存放，以NaOH为例，用化学反应方程式表示其原因：                                                             。
(2)图示①～⑤的变化中，属于氧化还原反应的是                         。(3)SiCl₄在潮湿的空气中剧烈水解，产生白雾，军事工业中用于制造烟雾剂。SiCl₄水解的化学反应方程式为                                              。
(4)在反应⑤中，3 mol Si(NH₂)₄，在高温下加热可得1 mol氮化硅粉末和8 mol A气体，则氮化硅的化学式为                                            。
(5)在高温下将SiCl₄在B和C两种气体的气氛中，也能反应生成氮化硅，B和C两种气体在一定条件下化合生成A。写出SiCl₄与B和C两种气体反应的化学方程式                     。

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科目：高中化学 来源：不详 题型：填空题

硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式____________________。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式____________________；H₂还原SiHCl₃过程中若混有O₂，可能引起的后果是____________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是 (　　)。
A．单质硅化学性质稳定，但可以被强碱溶液腐蚀
B．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
D．光导纤维的主要成分是SiO₂
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入盐酸，振荡。写出实验现象并给予解释(用化学方程式说明)_________________________ ____。
(4)在人体器官受到损伤时，需要使用一种新型无机非金属材料来植入体内，这种材料是________(填字母)。
A．高温结构陶瓷　B．生物陶瓷　 C．导电陶瓷

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科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

下列物品或设备：①水泥路；②门窗玻璃；③水晶镜片；④石英钟表；⑤玛瑙手镯；⑥硅太阳能电池；⑦光导纤维；⑧计算机芯片。所用材料含有SiO₂的(　　)。

A．①②③④⑤⑦

B．①②⑦⑧

C．⑥⑧

D．全部

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科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

往含0.2 mol NaOH和0.1 mol Ba(OH)₂的溶液中持续稳定地通入CO₂气体，当通入气体的体积为6.72 L(标准状况下)时立即停止，则在这一过程中，溶液中离子数目和通入CO₂气体的体积关系正确的图像是(气体的溶解忽略不计)（）