【题目】乙酸橙花酯是一种食用香料,其结构简式如图,关于该有机物的叙述正确的是
A. lmol该有机物在镍催化下可消耗3molH2
B. 该有机物既能发生氧化反应又能发生还原反应
C. 该有机物的分子式为C12H18O2
D. 1mol该有机物能消耗2 mol NaOH
科目:高中化学 来源: 题型:
【题目】磁性材料产业是21世纪各国竞相发展的高科技支柱产业之一,作为信息产业和机电工业的重要基础功能材料,磁性材料广泛用于电子信息、军事技术等领域。碳酸锰主要用于制备软磁铁氧体,工业上以软锰矿(主要成分为MnO2)和黄铁矿(主要成分为FeS2)为主要原料制备碳酸锰的主要工艺流程如下:
已知:几种金属离子沉淀的pH如下表。
Fe2+ | Fe3+ | Cu2+ | Mn2+ | |
开始沉淀的pH | 7.5 | 3.2 | 5.2 | 8.8 |
完全沉淀的pH | 9.2 | 3.7 | 7.8 | 10. 4 |
回答下列问题:
(1)为了提高溶浸工序中原料的浸出效率,采取的措施不合理的有________。
A.搅拌 B.适当升高温度 C.研磨矿石 D.加入足量的蒸馏水
(2)溶浸过程中主要产生的金属阳离子为Fe3+、Mn2+,浸取后的溶液中含有少量Fe2+、Cu2+、Ca2+,则在加入石灰调节溶液的pH从而使铁元素被完全沉淀前,加入适量的软锰矿,其发生反应的离子方程式为____________________,加入石灰调节溶液pH的范围为____________________。
(3)净化工序的目的是除去溶液中的Cu2+、Ca2+等杂质,故滤渣主要是________(填化学式)和CaF2。若测得滤液中c(F-)为0.01mol·L-1,则滤液中残留c(Ca2+)为________mol·L-1[已知:Ksp(CaF2)=1.46×10-10]。
(4)有人认为净化工序中使用NaF会引起污染,建议用(NH4)2CO3代替NaF,但是用(NH4)2CO3代替NaF的缺点是______________________________________。
(5)下图为黄铁矿的质量分数对锰浸出率的影响,仅据图中信息,黄铁矿的质量分数应保持在________%左右。
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【题目】某校化学活动小组查阅资料发现,粗盐中除NaCl外,还含有MgCl2、CaCl2、Na2SO4以及泥沙等杂质,他们要除去杂质得到精盐,设计了下列实验流程图(序号①~⑧表示实验操作,用于沉淀的试剂稍过量)
根据上述流程,回答下列问题:
(1)操作①中玻璃棒的作用是_________;
(2)第⑤步操作的名称是_________;
(3)“蒸发结晶”用到的器材有:铁架台(铁圈)、坩埚钳、石棉网、火柴、玻璃棒、酒精灯和_______;
(4)实验中加入Na2CO3溶液的目的是___________;
(5)利用提供的沉淀试剂,再写出一种添加上述 4 种试剂的操作顺序(填序号)_________;
(6)分别写出步骤②③④中发生反应的化学方程式。②_________、③____________、④____________。
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【题目】水稀释0.1mol/L氨水时,溶液中随着水量的增加而减小的是( )
A.氨水的电离程度B.c(NH3·H2O)/c(OH-)
C.c(H+)和c(OH-)的乘积D.OH-的物质的量
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【题目】氨气是一种重要的化工原料。合成氨的反应的化学反应方程式为:N2(g)+3H2(g)2NH3(g)。完成下列填空:
(1)在其他条件不变的情况下,降低温度平衡向正反应方向移动,则正反应为___反应(选填“吸热”、“放热”)。在其他条件不变的情况下,缩小容器体积以增大反应体系的压强,v正___(选填“增大”、“减小”,下同),v逆___,平衡向___方向移动(选填“正反应”、“逆反应”、“不移动”)。
(2)如图为反应速率(ν)与时间(t)关系的示意图,由图判断,在t1时刻曲线发生变化的原因是___(填写编号)。
a.增大N2的浓度
b.扩大容器体积
c.加入催化剂
d.升高温度
改变条件后,平衡混合物中NH3的百分含量___(选填“增大”、“减小”、“不变”)。
(3)工业生产中选择铁触媒作催化剂,主要考虑的是____
a.使化学反应速率加快 b.这种催化剂对该反应催化剂效果更好
c.使原料利用率提高 d.其他物质对该反应不能起催化作用
(4)工业合成氨的简要流程图如下:
同学们发现:该流程设计得很巧妙,除了温度压强等因素外,至少有两处操作可以提高原料的利用率。一是___二是____。
(5)氨气的电子式____;氨气的水溶液滴入酚酞试液,溶液呈红色,用方程式解释溶液颜色变化____。
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【题目】已知2CO(g) CO2(g)+C(s),T=980k时,△H-TΔS=O。当体系温度低于980k时.估计△H-T△S的正负符号为___,所以正反应____进行(填“自发”或“非自发”);当体系温度高于980k时.△H-T△S的正负符号为_______。 在冶金工业中,以C作为还原剂温度高于980k时的氧化物是以______为主,低于980k时以____为主。
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【题目】相同质量的两种气体CO2和N2,它们的物质的量比是___,它们所含分子数比是___,在相同条件下它们的体积比是____,则它们的密度之比为____,摩尔质量之比为____。
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【题目】进行一氯取代后,只生成2种沸点不同的产物的烷烃的是( )
A. (CH3)2CHCH2CH2CH3B. (CH3)3CCH2CH3
C. (CH3CH2)2CHCH3D. (CH3)2CHCH(CH3)2
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