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分析 L、M、R、T、W是原子序数依次增大的短周期主族元素,R的单质是一种常见的半导体材料,则R为Si,L与R原子的最外层电子数相同,二者同主族,则L为C元素,结合M、T在周期表中的相对位置,可知M处于第二周期,T处于第三周期,M只能处于ⅤA族,T、W分别处于ⅥA、ⅦA族,可推知M为N元素、T为S元素、W为Cl,据此解答.
解答 解:L、M、R、T、W是原子序数依次增大的短周期主族元素,R的单质是一种常见的半导体材料,则R为Si,L与R原子的最外层电子数相同,二者同主族,则L为C元素,结合M、T在周期表中的相对位置,可知M处于第二周期,T处于第三周期,M只能处于ⅤA族,T、W分别处于ⅥA、ⅦA族,可推知M为N元素、T为S元素、W为Cl.
(1)S原子的结构示意图为,元素Cl在周期表中位于第三周期第ⅦA族,M单质分子为N2,分子中N原子之间形成3对共用电子对,电子式为 ,
故答案为:;第三周期第ⅦA族;;
(2)二氧化硅与氢氧化钠反应生成硅酸钠,硅酸钠是无机矿物胶,使磨口玻璃塞粘住,不能用带磨口玻璃塞的试剂瓶盛放,反应方程式为SiO2+2NaOH═Na2SiO3+H2O,
故答案为:SiO2+2NaOH═Na2SiO3+H2O;
(3)a.M的气态氢化物比R的气态氢化物稳定,非金属性越强氢化物越稳定,则非金属性M强于R,故a正确;
b.高温下,L的单质能从R的最高价氧化物中置换出R,高温条件改变了物质的性质,不能说明非金属性L强于R,故b错误;
c.W的核电荷数比T多,原子半径比T小,W原子核对核外电子吸引越强,得电子能力强,则非金属性W强于T,故c正确;
d.同温同物质的量浓度的Na2CO3和Na2SO4溶液pH:Na2CO3>Na2SO4,说明酸性碳酸弱于硫酸,故则非金属性S强于C,故d正确,
故答案为:acd;
(4)工业上可用二氧化硅、氯气和焦炭在高温条件下制备SiCl4,且该反应中除SiCl4外的另一种产物可以用于工业冶炼铁,该产物为CO,制备SiCl4反应的化学方程式为2Cl2+SiO2+2C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$SiCl4+2CO,
故答案为:2Cl2+SiO2+2C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$SiCl4+2CO.
点评 本题考查结构性质位置关系应用,推断元素是解题关键,(3)中b选项为易错点,学生容易根据置换反应判断,忽略外界条件对物质性质的影响,难度中等.
科目:高中化学 来源: 题型:选择题
A. | 7类 | B. | 6类 | C. | 5类 | D. | 4类 |
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A. | 0.1mol/L的硫酸 | B. | 0.1mol/L的硝酸 | ||
C. | 0.1mol/L的盐酸 | D. | 0.1mol/L的醋酸(CH3COOH) |
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物质 | 溴 | 苯 | 溴苯 |
沸点 | 58.5℃ | 80.1℃ | 156.2℃ |
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A. | 0.1(b-4a) mol•L-1 | B. | 0.1(b-2a) mol•L-1 | C. | 10(b-4a) mol•L-1 | D. | 10(b-2a) mol•L-1 |
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