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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B.

(1)请指出A中含有的官能团________(填两种).

(2)A经光照固化转变为B,发生了________反应(填反应类型).

(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式________.

(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式________.

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科目:高中化学 来源: 题型:

光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是(  )

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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是(  )

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科目:高中化学 来源: 题型:

(2011?绵阳模拟)(I)光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光刻版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B.
(1)A经光照固化转变为B,发生了
加成反应
加成反应
反应(填反应类型).
(2)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式

(II)A为某芳香烃的衍生物,只含C、H、O三种元素,环上有两个取代基.又已知A的相对分子质量为150,A不能使FeCl3溶液显色,但可被新制Cu(OH)2氧化为B,B在浓硫酸存在和加热时,发生分子内的酯化反应生成C;C分子中有一个含氧的六元环.
(1)B分子中的含氧官能团为(填名称)
羧基,羟基
羧基,羟基

(2)写出符合上述条件的A的可能的结构式:

(3)写出任意一种A与新制Cu(OH)2反应的化学方程式:

(4)写出任意一种B生成的C化学方程式:

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科目:高中化学 来源: 题型:

光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B.

(1)请指出A中含有的官能团名称
酯基、碳碳双键
酯基、碳碳双键
(填两种).
(2)A经光照固化转变为B,发生了
加成
加成
反应(填反应类型).
(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式

(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式
C18H16O4
C18H16O4

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科目:高中化学 来源: 题型:

22.光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。

⑴请写出A中含有的官能团_______________(填两种)。

⑵A经光照固化转变为B,发生了___________反应(填反应类型)。

⑶写出A与NaOH溶液反应的化学方程式______________________________。

⑷写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________。

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