Question

【题目】下列离子方程式正确的是( )

A.二氧化硅溶于氢氟酸溶液中： SiO2+4H++4F-=SiF4↑ +2H2O

B.偏铝酸钠溶液中通入过量的CO2：2AlO2- + CO2+3H2O=2Al(OH)3↓+ CO32-

C.稀硫酸加入氢氧化钡溶液中：H+ ++ Ba2+ + OH-=BaSO4↓+ H2O

D.硫酸铝溶液中加入过量的氨水：Al3++3NH3·H2O=Al(OH)3↓+3NH4+

Answer 1

【答案】D

【解析】

A. 二氧化硅与氢氟酸反应生成四氯化硅和水，离子方程式为： SiO2+4HF=SiF4↑ +2H2O，故A错误；

B. 偏铝酸钠与过量的CO2反应生成碳酸氢钠，离子方程式为：AlO2-+CO2+2H2O=Al(OH)3↓+ HCO3-，故B错误；

C. 稀硫酸与氢氧化钡反应生成硫酸钡和水，离子方程式为：2H+++Ba2++2OH-=BaSO4↓+2 H2O，故C错误；

D. 硫酸铝与过量的氨水反应生成氢氧化铝沉淀和硫酸铵，离子方程式为：Al3++3NH3·H2O=Al(OH)3↓+3NH4+，故D正确；

故选D。