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    光刻胶是制大规模集成电路、印刷电路板和激光制板技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。
    (1)请指出A中含有的官能团：_______________（填两种）。
    (2)A经光照固化转变为B，发生了__________反应（填反应类型）。
    (3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式：____________________。
    (4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式：_______________。
    (1)酯基、碳碳双键  
    (2)加成

    (4)C18H16O4
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    科目：高中化学 来源： 题型：

    光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（　　）

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（　　）

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    （2011?绵阳模拟）（I）光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光刻版技术中的关键材料．某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B．
    （1）A经光照固化转变为B，发生了
    加成反应
    加成反应
    反应（填反应类型）．
    （2）写出A与NaOH溶液反应的化学方程式
    ．
    （II）A为某芳香烃的衍生物，只含C、H、O三种元素，环上有两个取代基．又已知A的相对分子质量为150，A不能使FeCl3溶液显色，但可被新制Cu（OH）2氧化为B，B在浓硫酸存在和加热时，发生分子内的酯化反应生成C；C分子中有一个含氧的六元环．
    （1）B分子中的含氧官能团为（填名称）
    羧基，羟基
    羧基，羟基
    ；
    （2）写出符合上述条件的A的可能的结构式：
    ；
    （3）写出任意一种A与新制Cu（OH）2反应的化学方程式：
    ；
    （4）写出任意一种B生成的C化学方程式：
    ．

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：多选题

    光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（　　）
    A．合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2
    B．1 mol该物质可消耗4molH2
    C．该物质可稳定存在于碱性溶液中
    D．该物质可经过加聚反应制得
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