Question

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用焦炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500 ℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下：

a．四氯化硅遇水极易水解；

b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

c．有关物质的物理常数见下表：

物　质	SiCl4	BCl3	AlCl3	FeCl3	PCl5
沸点/℃	57.7	12.8	－	315	－
熔点/℃	－70.0	－107.2	－	－	－
升华温度/℃	－	－	180	300	162

请回答下列问题：

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式  ____________________________。

(2)装置A中g管的作用是________；装置C中的试剂是________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________。

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成

Fe^2＋，再用KMnO₄标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe^2＋＋MnO₄^－＋8H^＋===5Fe^3＋＋Mn^2＋＋4H₂O

①
       滴定前是否要滴加指示剂？________(填“是”或“否”)，请说明理由  

______________________。

②某同学称取5.000 g残留物，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10^－2 mol·L^－1 KMnO₄标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是________。

Answer 1

解析　(1)A装置是制备Cl₂的，注意要求写的是MnO₂与浓盐酸的“离子方

程式”。

(2)装置A中“g”管的作用是“使分液漏斗与圆底烧瓶压强保持一致，便于液

体顺利滴下”，简单说就是“平衡压强”。B是除杂装置，除去Cl₂中的HCl

气体，C就是干燥装置。干燥Cl₂一般用浓硫酸。由于反应温度是450～500 ℃，

此时SiCl₄是气体，而题目表格中SiCl₄通常应是液态的，故装置E中h瓶需

要冷却的理由应是便于分离得到SiCl₄。

(3)根据已知条件AlCl₃、FeCl₃、PCl₅都会在精馏后的残留物中存在，注意要

先答上Cl，容易遗漏。

(4)①由于紫色的KMnO₄溶液反应后颜色会褪去，所以不用滴加指示剂。

②根据KMnO₄的用量计算出Fe^2＋的用量，再算其质量分数，属于典型的常

见计算，略。

答案　(1)MnO₂＋4H^＋＋2Cl^－Mn^2＋＋Cl₂↑＋2H₂O

(2)平衡压强　浓硫酸　使SiCl₄冷凝　(3)Al、P、Cl

(4)①否　KMnO₄溶液自身可作指示剂　②4.480%