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由二氧化硅制高纯硅的流程如下,下列判断中错误的是

A.①②③均属于氧化还原反应            B.H2和HCl均可循环利用

C.SiO2是一种坚硬难熔的固体            D.SiHCl3摩尔质量为135.5g

 

【答案】

D

【解析】

试题分析:A.反应①为SiO2+2C=Si+2CO↑,反应②Si(粗)+3HCl=SiHCl3+H2,反应③SiHCl3+H2=Si(粗)+3HCl,三个方程式中元素的化合价均发生变化,均属于氧化还原反应,故A正确;B.生产高纯硅的流程示意图可知,H2和HCl既是反应物,又是生成物,所以可重复利用的物质是H2和HCl,故B正确;C.SiO2是原子晶体,硬度大、熔点高,故C正确;D.SiHCl3摩尔质量为135.5g/mol,故D错误;故选D.

考点:本题主要考查了氧化还原反应的判断、原子晶体的性质,摩尔质量的单位,难度不大,根据所学知识即可完成.

 

练习册系列答案
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由二氧化硅制高纯硅的流程如图,下列判断中错误的是(  )精英家教网
A、①②③均属于氧化还原反应B、H2和HCl均可循环利用C、SiO2是一种坚硬难熔的固体D、SiHCl3摩尔质量为135.5g

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科目:高中化学 来源:2015届江苏省常州市高二阶段性检测化学试卷(解析版) 题型:选择题

由二氧化硅制高纯硅的流程如下,下列判断中错误的是

A.①②③均属于氧化还原反应            B.H2和HCl均可循环利用

C.SiO2是一种坚硬难熔的固体            D.SiHCl3摩尔质量为135.5g

 

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科目:高中化学 来源: 题型:单选题

由二氧化硅制高纯硅的流程如图,下列判断中错误的是


  1. A.
    ①②③均属于氧化还原反应
  2. B.
    H2和HCl均可循环利用
  3. C.
    SiO2是一种坚硬难熔的固体
  4. D.
    SiHCl3摩尔质量为135.5g

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科目:高中化学 来源:广东省高考真题 题型:填空题

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制 备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
①写出由纯SiHCl3,制备高纯硅的化学反应方程式________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式______________________________;H2还原SiHCl3 过程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是____(填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅 
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释________。

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