精英家教网 > 高中化学 > 题目详情
氮化硅硬度大、熔点高、不溶于酸(氢氟酸除外),是一种重要的结构陶瓷材料.一种用工业硅(含少量钾、钠、铁、铜的氧化物),已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅.一种合成氮化硅的工艺主要流程如下:
精英家教网
(1)净化N2和H2时,铜屑的作用是:
 
;硅胶的作用是
 

(2)在氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)=Si3N4(s)△H=-727.5kJ/mol,开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度:
 
;体系中要通入适量的氢气是为了
 

(3)X可能是
 
(选填:“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”).
(4)如何说明氮化硅产品已用水洗干净?
 

(5)用硅粉作硅源、叠氮化钠(NaN3)作氮源,直接燃烧生成氮化硅(发生置换反应),该反应的化学方程式为:
 
分析:(1)Cu能与氧气反应,硅胶具有吸水性;
(2)控制氮气的流速是防止温度过高,体系中要通入适量的氢气可将氧气转化为水蒸气;
(3)氮化硅能与HF酸反应,盐酸、稀硫酸均不与Cu反应,氮化硅中混有铜粉;
(4)利用水洗后溶液的酸碱性分析;
(5)利用反应物与生成物来书写化学反应方程式.
解答:解:(1)Cu能与氧气反应,则Cu屑的作用为除去原料气中的氧气;硅胶具有吸水性,可除去生成的水蒸气,故答案为:除去原料气中的氧气;除去生成的水蒸气;
(2)氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)=Si3N4(s)△H=-727.5kJ/mol,该反应为放热反应,开始时严格控制氮气的流速以控制温度是防止局部过热,导致硅熔化熔合成团,阻碍与N2的接触;体系中要通入适量的氢气是为将体系中的氧气转化为水蒸气,而易被除去(或整个体系中空气排尽),
故答案为:该反应为放热反应,防止局部过热,导致硅熔化熔合成团,阻碍与N2的接触;将体系中的氧气转化为水蒸气,而易被除去;
(3)氮化硅能与HF酸反应,盐酸、稀硫酸均不与Cu反应,氮化硅中混有铜粉,为除去混有的Cu,可选择硝酸,Cu与硝酸反应,而氮化硅与硝酸不反应,故答案为:硝酸;
(4)氮化硅不溶于水、不溶于酸(HF酸除外),若氮化硅产品用水洗干净,则洗涤后的滤出液呈中性,故答案为:洗涤后的滤出液呈中性;
(5)硅粉作硅源、叠氮化钠(NaN3)作氮源,直接燃烧生成氮化硅,发生置换反应,还生成Na,该反应为9Si+4NaN3
 点燃 
.
 
3Si3N4+4Na↑,故答案为:9Si+4NaN3
 点燃 
.
 
3Si3N4+4Na↑.
点评:本题考查氮化硅的制备实验方案的设计,明确制备实验的装置中各部分的作用及物质的性质是解答本题的关键,注意物质的特性即可解答,题目难度中等.
练习册系列答案
相关习题

科目:高中化学 来源: 题型:

(2008?广东)硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
SiHCl3+H2
 1357K 
.
 
Si+3HCl
SiHCl3+H2
 1357K 
.
 
Si+3HCl

②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式
3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
;H2还原SiHCl3过程中若混O2,可能引起的后果是
高温下,H2遇O2发生爆炸
高温下,H2遇O2发生爆炸

(2)下列有关硅材料的说法正确的是
ABCD
ABCD
(填字母).
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水混
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的,其熔点很高
D.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡.写出实验现象并给予解释
生成白色絮状沉淀,又刺激性气味的气体生成,SiO32-与NH4+发生双水解反应,SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3
生成白色絮状沉淀,又刺激性气味的气体生成,SiO32-与NH4+发生双水解反应,SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3

查看答案和解析>>

科目:高中化学 来源: 题型:

材料科学与人们的生产生活密切相关,下列关于各种材料的说法正确的是(  )
A、合金一定比对应的纯金属耐腐蚀B、制备普通玻璃的原料有烧碱、石英和石灰石C、氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作耐高温陶瓷和轴承D、聚乙烯加热会软化,遇冷后又能变成固体的性质,说明它是热固性材料

查看答案和解析>>

科目:高中化学 来源: 题型:

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式_________________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是__________________(填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释_______________________________。

查看答案和解析>>

科目:高中化学 来源:2016届吉林省高一上学期期末考试化学试卷(解析版) 题型:填空题

请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯制备高纯硅的化学方程式: ____________________________________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。遇水剧烈反应生成、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为___________________________;还原过程中若混入可能引起的后果是____________________________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是_________ (填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释                                                                                        

 

查看答案和解析>>

同步练习册答案