【题目】下列仪器中①漏斗;②容量瓶;③蒸馏烧瓶;④天平;⑤分液漏斗;⑥燃烧匙,常用于物质分离的是 ( )
A. ①③④ B. ①②⑥ C. ①③⑤ D. ③④⑥
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【题目】下列说法正确的是 ( )
A.物质的量可理解为物质的质量
B.物质的量就是物质的粒子数目
C.物质的量是度量物质所含微观粒子多少的一个物理量
D.物质的量的单位——摩尔,只适用于分子、原子和离子
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【题目】下列有关仪器用途的说法正确的是 ( )
A. 试管、烧杯均可用于给液体、固体加热
B. 使食盐水中NaCl结晶析出时,用到的仪器有坩埚、酒精灯、玻璃棒、泥三角
C. 区别NaCl、Na2SO4时常用到胶头滴管、试管
D. 漏斗不可用于过滤溶液
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【题目】已知A、B、C、D、E都是周期表中前四周期的元素,且原子序数依次增大,其中A原子核外有三个未成对电子;A与B可形成离子化合物B3A2;C元素是地壳中含量最高的金属元素;D原子核外的M层中有两对成对电子;E原子核外最外层只有1个电子,其余各层电子均充满。请根据以上信息,回答下列问题(答题时,A、B、C、D、E用所对应的元素符号表示):
(1)比E核外电子数少5的元素的原子核外电子排布式是,A、B、C、D的第一电离能由小到大的顺序为。
(2)B的氯化物的熔点远高于C的氯化物的熔点,理由是。
(3)A的氢化物属于(填“极性”或“非极性”)分子,D的低价氧化物分子的空间构型是。
(4)A、E形成的某种化合物的晶胞结构如图所示,则其化学式为(每个球均表示1个原子)。
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【题目】用下列实验装置进行相应实验,能达到实验目的的是( )
A.用图1所示装置除去Cl2中含有的少量HCl
B.用图2所示装置蒸干NH4Cl饱和溶液制备NH4Cl晶体
C.用图3所示装置制取少量纯净的CO2气体
D.用图4所示装置分离CCl4萃取碘水后已分层的有机层和水层
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【题目】下列有关除杂质(括号中为杂质)的操作中,错误的是( )
A. 乙醇(水):加新制生石灰,蒸馏,收集馏出物
B. 溴乙烷(乙醇):多次加水振荡,分液,弃水层
C. 苯(苯酚):加溴水,振荡,过滤除去沉淀
D. 乙酸乙酯(乙酸):加饱和碳酸钠溶液,充分振荡,分液,弃水层
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【题目】硅是带来人类文明的重要元素之一,从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个有一个奇迹.
(1)新型陶瓷Si3N4的熔点高、硬度大、化学性质稳定.工业上可以采用化学气相沉积法,在H2的保护下,使SiCl4与N2反应生成Si3N4沉积在石墨表面,写出该反应的化学方程式 .
(2)一种用工业硅(含少量钾、钠、铁、铜的氧化物),已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅.一种合成氮化硅的工艺主要流程如图:
①净化N2和H2时,铜屑的作用是:;硅胶的作用是 .
②在氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)═Si3N4(s)△H=﹣727.5kJ/mol,开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度;体系中要通入适量的氢气是为了 .
③X可能是(选填:“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”).
(3)工业上可以通过如图所示的流程制取纯硅:
①整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应,写出该反应的化学方程式 .
②假设每一轮次制备1mol纯硅,且生产过程中硅元素没有损失,反应Ⅰ中HCl的利用率为90%,反应Ⅱ中H2的利用率为93.75%.则在第二轮次的生产中,补充投入HCl和H2的物质的量之比是 .
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