A. | 二氧化硅在电子工业中,是最重要的半导体材料 | |
B. | 硅是构成矿物和岩石的主要元素,硅在地壳中的含量在所有的元素中居第一位 | |
C. | 硅的化学性质不活泼,在自然界中可以以游离态存在 | |
D. | 光导纤维是以二氧化硅为主要原料制成的 |
科目:高中化学 来源: 题型:选择题
A. | 熔沸点:H2O>HF>HCl | B. | 原子半径:Mg>Na>O | ||
C. | 酸性:H3PO4>H2SO4>HClO4 | D. | 热稳定性:H2O>HF>H2S |
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科目:高中化学 来源: 题型:解答题
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科目:高中化学 来源: 题型:选择题
A. | 加入AgNO3,可以使溶液由c点变到d点 | |
B. | 加入少量水,平衡右移,Cl-浓度减小 | |
C. | d点没有AgCl沉淀生成 | |
D. | c点对应的Ksp等于a点对应的Ksp |
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科目:高中化学 来源: 题型:选择题
A. | 自然界中含有大量的游离态的硅,纯净的硅晶体可用于制作计算机芯片 | |
B. | 工业上通常用电解钠、镁、铝对应的氯化物制得该三种金属单质 | |
C. | Si、P、S、Cl相应的氢化物的还原性依次增强 | |
D. | 测定相同条件下NaHCO3溶液和Na2SO4溶液的pH,判断碳与硫的非金属性强弱 |
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科目:高中化学 来源: 题型:选择题
A. | ![]() 装置中,d为阳极、c为阴极 | |
B. | ![]() 装置由a进气可用于收集H2、NH3、CO2、Cl2 等气体 | |
C. | ![]() 装置中X若为CCl4,可用于吸收NH3 或HCl,并可防止倒吸 | |
D. | ![]() 装置可用于干燥、收集HCl,并吸收多余的HCl |
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科目:高中化学 来源: 题型:多选题
A. | 金属钠与水反应:Na+H2O═Na++OH-+H2↑ | |
B. | 铜粉溶于氯化铁溶液中:Cu+2Fe3+═2Fe2++Cu2+ | |
C. | 氯气与冷氢氧化钠溶液反应:Cl2+2OH-═Cl-+ClO-+H2O | |
D. | 向氯化铝溶液中加入过量氨水:4OH-+Al3+═AlO2-+2H2O |
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科目:高中化学 来源: 题型:选择题
A. | 2.8g铁粉在1.12L(标准状态)氯气中充分燃烧,失去的电子数为0.15NA | |
B. | 常温下,0.1mol/LHCl溶液中所含的H+个数为0.1NA | |
C. | 11.2L 的CO气体与0.5molN2所含的电子数相等 | |
D. | 10gH218O中所含的中子数为5NA |
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科目:高中化学 来源: 题型:选择题
A. | 1:2 | B. | 2:1 | C. | 1:1 | D. | 4:1 |
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