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4.下面有关硅的叙述中,正确的是(  )
A.二氧化硅在电子工业中,是最重要的半导体材料
B.硅是构成矿物和岩石的主要元素,硅在地壳中的含量在所有的元素中居第一位
C.硅的化学性质不活泼,在自然界中可以以游离态存在
D.光导纤维是以二氧化硅为主要原料制成的

分析 A.二氧化硅为绝缘体;
B.硅在地壳中的含量在所有的元素中居第二位;
C.自然界中无游离态硅;
D.二氧化硅是光导纤维主要成分.

解答 解:A.二氧化硅为绝缘体,用作半导体材料的是硅,故A错误;
B.硅在地壳中的含量在所有的元素中居第二位,故B错误;
C.硅在自然界中以化合态存在,故C错误;
D.二氧化硅是光导纤维主要成分,是制备光导纤维的主要原料,故D正确;
故选:D.

点评 本题考查了硅及其化合物的性质,熟悉硅、二氧化硅的性质和用途即可解答,题目难度不大.

练习册系列答案
相关习题

科目:高中化学 来源: 题型:选择题

12.下列排列顺序正确的是(  )
A.熔沸点:H2O>HF>HClB.原子半径:Mg>Na>O
C.酸性:H3PO4>H2SO4>HClO4D.热稳定性:H2O>HF>H2S

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科目:高中化学 来源: 题型:解答题

15.四种短周期元素aA、bB、cC、dD,已知原子序数大小关系是:a<c<b<d,且a+b=(c+d)/2;四种元素在周期表中的位置关系是:A、B同主族,C、D也同主族.
(1)B、C、D三元素形成的六原子核的化合物和水反应的离子方程式是:SO32-+H2O?HSO3-+OH-
(2)A、C形成的四原子核化合物甲,该化合物呈弱酸性,试写出这种化合物的电离方程式:H2O2?HO2-+H+
(3)写出分别由A、B、C、D四种元素所形成的两种化合物的水溶液相互反应的离子方程式:H++HSO3-═SO2↑+H2O.
(4)写出A、C、D形成的六原子核化合物乙的水溶液和甲的水溶液相互反应的化学方程式:H2O2+H2SO3═H2SO4+H2O.

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科目:高中化学 来源: 题型:选择题

12.某温度时,AgCl(s)?Ag+(aq)+Cl-(aq)在水中的沉淀溶解平衡曲线如图所示.下列说法正确的是(  )
A.加入AgNO3,可以使溶液由c点变到d点
B.加入少量水,平衡右移,Cl-浓度减小
C.d点没有AgCl沉淀生成
D.c点对应的Ksp等于a点对应的Ksp

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科目:高中化学 来源: 题型:选择题

19.下列说法正确的是(  )
A.自然界中含有大量的游离态的硅,纯净的硅晶体可用于制作计算机芯片
B.工业上通常用电解钠、镁、铝对应的氯化物制得该三种金属单质
C.Si、P、S、Cl相应的氢化物的还原性依次增强
D.测定相同条件下NaHCO3溶液和Na2SO4溶液的pH,判断碳与硫的非金属性强弱

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科目:高中化学 来源: 题型:选择题

9.关于下列各装置图的叙述中,正确的是(  )
A.
装置中,d为阳极、c为阴极
B.
装置由a进气可用于收集H2、NH3、CO2、Cl2 等气体
C.
装置中X若为CCl4,可用于吸收NH3 或HCl,并可防止倒吸
D.
装置可用于干燥、收集HCl,并吸收多余的HCl

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科目:高中化学 来源: 题型:多选题

16.下列离子方程式正确的是(  )
A.金属钠与水反应:Na+H2O═Na++OH-+H2
B.铜粉溶于氯化铁溶液中:Cu+2Fe3+═2Fe2++Cu2+
C.氯气与冷氢氧化钠溶液反应:Cl2+2OH-═Cl-+ClO-+H2O
D.向氯化铝溶液中加入过量氨水:4OH-+Al3+═AlO2-+2H2O

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科目:高中化学 来源: 题型:选择题

13.用NA表示阿伏加德罗常数的值,下列叙述正确的是(  )
A.2.8g铁粉在1.12L(标准状态)氯气中充分燃烧,失去的电子数为0.15NA
B.常温下,0.1mol/LHCl溶液中所含的H+个数为0.1NA
C.11.2L 的CO气体与0.5molN2所含的电子数相等
D.10gH218O中所含的中子数为5NA

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科目:高中化学 来源: 题型:选择题

14.将32g铜与140mL一定浓度的硝酸反应,铜完全溶解产生的NO和NO2混合气体在标准状况下的体积为11.2L,则生成的NO和NO2的体积之比为(  )
A.1:2B.2:1C.1:1D.4:1

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