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纯碱是一种重要的化工原料。目前制碱工业主要有氨碱法联合制碱法两种工艺。请按要求回答问题:

(1)“氨碱法产生大量CaCl2废弃物,请写出该工艺中产生CaCl2的化学方程式:___________________________

(2)写出联合制碱法有关反应的化学方程式:_______________________

(3)CO2是制碱工业的重要原料,联合制碱法氨碱法CO2的来源有何不同?_______________________

(4)绿色化学的重要原则之一是提高反应的原子利用率。根据联合制碱法总反应列出计算原子利用率的表达式:原子利用率(%)_________________

 

(1)2NH4ClCa(OH)22NH3CaCl22H2O

(2)NH3CO2H2O=NH4HCO3

NaClNH4HCO3=NaHCO3NH4Cl

2NaHCO3Na2CO3H2OCO2

(3)“联合制碱法中的CO2来源于合成氨厂,氨碱法中的CO2来源于煅烧石灰石

(4) ×100%49.77%

【解析】氨碱法的原料:氯化钠、碳酸钙(或二氧化碳)及氨。

工艺流程:CaCO3 CaOCO2CO2NH3H2O=NH4HCO3

NaClNH4HCO3=NaHCO3NH4Cl2NaHCO3Na2CO3H2OCO2

CaOH2O=Ca(OH)2

产生CaCl2的反应:Ca(OH)22NH4Cl CaCl22NH32H2O,该反应的CaCl2中的Cl来源于NaClCa2来源于CaCO3,产生无用的CaCl2,降低了NaCl的利用率。

联合制碱法:NH3CO2来源于合成氨厂

工艺流程:NH3CO2H2O=NH4HCO3

NaClNH4HCO3=NaHCO3NH4Cl

2NaHCO3 Na2CO3H2OCO2

 

依据总反应:2NaClCO2H2O2NH3=Na2CO32NH4Cl

可得:原子利用率=×100%49.77%

 

练习册系列答案
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硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下 :

 

写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________

整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式____________________H2还原SiHCl3过程中若混有O2,可能引起的后果是____________________

(2)下列有关硅材料的说法正确的是 (  )

A单质硅化学性质稳定,但可以被强碱溶液腐蚀

B盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

C普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

D光导纤维的主要成分是SiO2

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ABaCl2NaOHNa2CO3

BBaCl2Na2CO3NaOH

CNaOHBaCl2Na2CO3

DNa2CO3BaCl2NaOH

 

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AA城近郊 BB城近郊 CC城近郊 DD城近郊

 

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请回答:

(1)母液中所溶解的主要物质是________(写物质的化学式)。母液含有低浓度的Na2CO3,主要原因是__________________________

(2)向母液中通入气体时要先通氨气后通二氧化碳气体,主要原因是_______________________________________

(3)母液和母液中都通入NH3NH3的主要来源是__________母液中通入NH3的主要目的是____________母液中通入NH3的主要目的是__________________

(4)工艺流程的煅烧纯碱处,可设计____________的循环。

 

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用焦炭还原Na2SO4Na2SNa2SO44CNa2S4CO↑

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(2)下列说法正确的是 (  )

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B只有第步是氧化还原反应

C该方法对生产设备基本没有腐蚀

D该方法对环境污染较小

 

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