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半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅:

①SiO2(s)+2C(s)===Si(s)+2CO(g) ΔH=+682.44 kJ·mol-1,

(石英砂) (粗硅)

②Si(s)+2Cl2(g)===SiCl4(g) ΔH=-657.01 kJ·mol-1

(粗硅)

③SiCl4(g)+2Mg(s)===2MgCl2(s)+Si(s) ΔH=-625.63 kJ·mol-1

(纯硅)

用石英砂生产1.00 kg纯硅的总放热为

A.2.43×104 kJ B.2.35×104 kJ C.2.23×104 kJ D.2.14×104 kJ

练习册系列答案
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下列叙述正确的是

A.氢氧化钠的摩尔质量是40 g

B.1 mol NaOH的质量是40 g/mol

C.1 g H2和1 g N2所含分子数相等

D.等质量的N2 、CH4 、CO、 H2O中,CH4所含分子数最多

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下列广告用语在科学性上没有错误的是

A.这种饮料中不含任何化学物质

B.这种蒸馏水绝对纯净,其中不含任何离子

C.这种口服液含丰富的氮、磷、锌等微量元素

D.没有水就没有生命

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在无色透明的溶液中可以大量共存的离子组是

A.H+、K+、HCO3-、NO3- B.OH-、Cl-、Na+、Fe 3+

C.Cu2+、NO3-、CO32-、Cl- D.Mg2+、K+、Cl-、NO3-

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下列实验操作中正确的是

A.蒸发操作时,应使混合物中的水分完全蒸干后,才能停止加热

B.蒸馏操作时,应使温度计水银球插入混合液体中

C.分液操作时,分液漏斗中下层液体从下口放出,上层液体从上口倒出

D.萃取操作时,应选择有机萃取剂,且萃取剂的密度必须比水大

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下列一定量的各物质所含原子个数按由大到小的顺序排列的是

①0.5 mol氨气 ②标准状况下22.4 L氦气 ③4 ℃时9 mL水 ④0.2 mol磷酸

A.①④③② B.④③②①

C.②③④① D.①④②③

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在标准状况下,将aLNH3完全溶于水得到V mL氨水,溶液的密度为ρg·cm-3,溶质的质量分数为ω,溶质的物质的量浓度为Cmol/L。下列叙述中正确的是

①ω=

②C=

③上述溶液中再加入VmL水后,所得溶液的质量分数大于0.5ω

④上述溶液中再加入1.5V mL同浓度稀盐酸,充分反应后溶液中离子浓度大小关系为:c(Cl-) > c(NH4+) > c(H+) > c(OH-)

A、①④ B、②③ C、①③ D、②④

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关于下列各实验装置的叙述中,正确的是( )

A.装置①可用于分离C2H5OH和H2O的混合物

B.装置②可用于将海带灼烧成灰

C.装置③可用于除去氯气中的HCl

D.装置④可用于实验室制取NO

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在Cl-浓度为0.5 mol·L-1的某无色澄清溶液中,还可能含有下表中的若干种离子。

阳离子

K+ Al3+ Mg2+ Ba2+ Fe3+

阴离子

NO3- CO32- SiO32- SO42- OH-

现取该溶液100 mL进行如下实验(气体体积均在标准状况下测定)。

序号

实验内容

实验结果

向该溶液中加入足量稀盐酸

产生白色沉淀并放出标准状况下0.56 L气体

将Ⅰ的反应混合液过滤,对沉淀洗涤、灼烧至恒重,称量所得固体质量

固体质量为2.4 g

向Ⅱ的滤液中滴加BaCl2溶液

无明显现象

请回答下列问题。

(1)通过以上实验能确定一定不存在的离子是____ ____。

(2)实验Ⅰ中生成沉淀的离子方程式为___________________________。

(3)通过实验Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ和必要计算,请写出一定存在的阴离子及其浓度(不一定要填满)。

阴离子

浓度c/(mol·L-1)

(4)判断K+是否存在,若存在,求出其最小浓度,若不存在说明理由:________ _____。

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