A. | 高温下用焦炭还原SiO2制取粗硅 | |
B. | 晶体硅熔点高硬度大,因此可用于制作半导体材料 | |
C. | 石英只能用于生产光导纤维 | |
D. | 玻璃容器可长期盛放各种酸 |
分析 A、工业上可用碳在高温下还原二氧化硅的方法制取少量粗硅:SiO2+2C $\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO↑;
B、硅元素位于金属和非金属元素之间,是良好的半导体材料;
C、石英的主要成分是二氧化硅;
D、氢氟酸与二氧化硅反应生成四氟化硅.
解答 解:A、工业上可用碳在高温下还原二氧化硅的方法制取少量粗硅:SiO2+2C $\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO↑,所以高温下用焦炭还原SiO2制取粗硅,故A正确;
B、晶体硅可用于制作半导体材料,是因为其导电性介于导体与绝缘体之间,与熔点高硬度大无关,故B错误;
C、石英的主要成分是二氧化硅,纯净的二氧化硅用于生产光导纤维,结晶的二氧化硅(如水晶、玛瑙等)用作饰物,故C错误;
D、氢氟酸与二氧化硅反应生成四氟化硅,所以玻璃容器并不是可长期盛放各种酸,如氢氟酸,故D错误;
故选A.
点评 本题考查硅及二氧化硅,明确物质的性质是解本题关键,知道硅、二氧化硅的用途,题目难度不大.
科目:高中化学 来源: 题型:实验题
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科目:高中化学 来源: 题型:解答题
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科目:高中化学 来源: 题型:实验题
密度(g/cm3) | 熔点(.C) | 沸点(.C) | |
碘 | 4.93 | 113.5 | 184.35 |
苯 | 0.885 | 80.10 | 5.53 |
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科目:高中化学 来源: 题型:选择题
A. | 反应开始到10s,用Z表示的反应速率为0.158mol/(L•s) | |
B. | 反应开始到10s,X的物质的量浓度减少了0.79mol/L | |
C. | 反应的化学方程式为:X(g)+Y(g)?Z(g) | |
D. | 反应开始到10s时,Y的转化率为79.0% |
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科目:高中化学 来源: 题型:解答题
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科目:高中化学 来源: 题型:填空题
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科目:高中化学 来源: 题型:解答题
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科目:高中化学 来源: 题型:解答题
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