练习册

  • 练习册
  • 试题
    精英家教网 > 高中化学 > 题目详情
    氮化硅硬度大、熔点高、不溶于酸（氢氟酸除外），是一种重要的结构陶瓷材料。一种用工业硅（含少量钾、钠、铁、铜的氧化物），已知硅的熔点是1420℃，高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅。一种合成氮化硅的工艺主要流程如下
    （1）净化N2和H2时，铜屑的作用是：____________；硅胶的作用是____________。
    （2）在氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)=Si3N4(s) △H=－727．5kJ/mol，开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度：____________；体系中要通入适量的氢气是为了____________。
    （3）X可能是____________（选填：“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”）。
    （4）如何说明氮化硅产品已用水洗干净？____________。
    （5）用硅粉作硅源、叠氮化钠（NaN3）作氮源，直接燃烧生成氮化硅（发生置换反应），该反应的化学方程式为：________________________。
    （1）除去原料气中的氧气；除去生成的水蒸气
    （2）这是放热反应，防止局部过热，导致硅熔化熔合成团，阻碍与N2的接触；将体系中的氧气转化为水蒸气，而易被除去（或将整个体系中空气排尽）
    （3）硝酸
    （4）洗涤后的滤出液呈中性
    （5）9Si+4NaN33Si3N4+4Na↑
    练习册系列答案
    年级 高中课程 年级 初中课程
    高一 高一免费课程推荐！ 初一 初一免费课程推荐！
    高二 高二免费课程推荐！ 初二 初二免费课程推荐！
    高三 高三免费课程推荐！ 初三 初三免费课程推荐！
    相关习题

    科目：高中化学 来源： 题型：

    （2008?广东）硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：
    （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

    ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
    SiHCl3+H2
     1357K 
    .
     
    Si+3HCl
    SiHCl3+H2
     1357K 
    .
     
    Si+3HCl
    ．
    ②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式
    3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
    3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
    ；H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是
    高温下，H2遇O2发生爆炸
    高温下，H2遇O2发生爆炸
    ．
    （2）下列有关硅材料的说法正确的是
    ABCD
    ABCD
    （填字母）．
    A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混
    B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
    C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高
    D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
    （3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡．写出实验现象并给予解释
    生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
    生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
    ．

    查看答案和解析>>

    科目：高中化学 来源： 题型：

    氮化硅硬度大、熔点高、不溶于酸（氢氟酸除外），是一种重要的结构陶瓷材料．一种用工业硅（含少量钾、钠、铁、铜的氧化物），已知硅的熔点是1420℃，高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅．一种合成氮化硅的工艺主要流程如下：
    精英家教网
    （1）净化N2和H2时，铜屑的作用是：
     
    ；硅胶的作用是
     
    ．
    （2）在氮化炉中3SiO2（s）+2N2（g）=Si3N4（s）△H=-727.5kJ/mol，开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度：
     
    ；体系中要通入适量的氢气是为了
     
    ．
    （3）X可能是
     
    （选填：“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”）．
    （4）如何说明氮化硅产品已用水洗干净？
     
    ．
    （5）用硅粉作硅源、叠氮化钠（NaN3）作氮源，直接燃烧生成氮化硅（发生置换反应），该反应的化学方程式为：
     
    ．

    查看答案和解析>>

    科目：高中化学 来源： 题型：

    材料科学与人们的生产生活密切相关，下列关于各种材料的说法正确的是（　　）
    A、合金一定比对应的纯金属耐腐蚀B、制备普通玻璃的原料有烧碱、石英和石灰石C、氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作耐高温陶瓷和轴承D、聚乙烯加热会软化，遇冷后又能变成固体的性质，说明它是热固性材料

    查看答案和解析>>

    科目：高中化学 来源： 题型：

    硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

    （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

    ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________________。

    ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式_________________；H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是_________________________。

    （2）下列有关硅材料的说法正确的是__________________（填字母）。

    A.碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥

    B.氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

    C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

    D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高

    E.盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

    （3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释_______________________________。

    查看答案和解析>>

    科目：高中化学 来源：2016届吉林省高一上学期期末考试化学试卷（解析版） 题型：填空题

    请回答下列问题:

    （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

    ①写出由纯制备高纯硅的化学方程式: ____________________________________。

    ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。遇水剧烈反应生成、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为___________________________;还原过程中若混入可能引起的后果是____________________________________。

    （2）下列有关硅材料的说法正确的是_________ (填字母)。

    A．碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

    B．氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

    C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

    D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

    E．盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

    （3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释                                                                                         。

     

    查看答案和解析>>

    同步练习册答案