单晶硅是信息产业中重要的基础材料.通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅.粗硅与氯气反应生成四氯化硅.四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅.以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图.相关信息:①四氯化硅遇水极易水解,②SiCl4沸点为57．7℃.熔点为-70．0℃.请回答:(1)写出装置A中发生反应的离子方程式 .(2)装置C中的试剂是 ,装置F的作用是 ,装置题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

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单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息：①四氯化硅遇水极易水解；②SiCl4沸点为57．7℃，熔点为－70．0℃。请回答：

（1）写出装置A中发生反应的离子方程式。

（2）装置C中的试剂是；装置F的作用是；

装置E中的h瓶需要冷却的理由是。

（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中含有铁元素，为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2＋,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定。

①反应的离子方程式：。

②滴定前是否要滴加指示剂？（填“是”或“否”），请说明理由。

③滴定前检验Fe3＋是否被完全还原的实验操作是。

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