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三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:

3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下了有关该反应的说法正确的是:

A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂

B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1

C.若生成0.2mol HNO3,则转移0.2mol电子

D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

 

【答案】

D

【解析】

试题分析:NF3中氮元素化合价为+3价,2/3降低为+2价的NO,1/3升高为+5价的HNO3,为还原剂;A、NF3是氧化剂和还原剂,错误;B、还原剂与氧化剂的物质的量之比为1:2,错误;C、若生成0.2mol HNO3,则转移0.4mol电子,错误;D、正确。

考点:考查氧化还原反应概念和原理有关问题。

 

练习册系列答案
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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生如下反应:3NF3+5H2O→2NO+HNO3+9HF.下列有关该反应的说法正确的是(  )

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三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生如下反应:。下列有关该反应的说法正确的是

A是还原剂

B非极性分子,在潮湿空气中泄漏会看到红棕色气体

C.每消耗02mol氧化剂,可收集到5418L气体

D.若生成1mol 个电子

 

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