Question

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃ ），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息：① 四氯化硅遇水极易水解；② SIC14沸点为57.7℃ ，熔点为-70.0℃ 。请回答：

（1）写出装置A 中发生反应的离子方程式_______________。

（2）装置C 中的试剂是___________；装置F的作用是_______________；

装置E 中的h 瓶需要冷却的理由是_______________。

（3）装置E 中h 瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中含有铁元素，为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2+，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定。

① 反应的离子方程式：_______________。② 滴定前是否要滴加指示剂？_______________。（填“是”或“否”） ，请说明理由_______________。

③ 滴定前检验Fe3+ 是否完全还原的实验操作是_______________。

Answer 1