Question

【题目】硅单质及其化合物应用范围很广，请回答下列问题：

制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

(1)写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式___________；

(2)整个制备过程必须严格控制无水无氧，SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3，HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式___________； H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是_________。

Answer 1

【答案】SiHCl3+H2Si+3HCl SiHCl3+3H2O=H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑ 氧气与氢气混合，可能引起爆炸、氧气可能会氧化SiHCl3

【解析】

(1)纯SiHCl3与H2在1357K下反应产生Si单质和HCl，据此可书写有关反应方程式；

(2)SiHCl3遇水反应产生H2SiO3、HCl，然后根据反应前后元素守恒，分析另外一种物质的成分，并书写相应的化学方程式；H2、O2的混合气体遇明火会发生爆炸。

(1)纯SiHCl3与H2在1357K下反应产生Si单质和HCl，该反应方程式为SiHCl3+H2Si+3HCl；

(2)SiHCl3遇水反应产生H2SiO3、HCl等，然后根据反应前后元素守恒，分析另外一种物质的成分是H2，据此可得相应的化学方程式为SiHCl3+3H2O=H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑；H2还原SiHCl3过程中若混入O2，H2、O2的混合气体可能会发生爆炸，并且氧气可能会氧化SiHCl3。