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18.高良姜素是姜科植物高良姜根中的提取物,它能使鼠伤寒沙门氏菌TA98和TA100发生诱变,具有抗病菌作用.下列关于高良姜素的叙述正确的是(  )
A.高良姜素的分子式为C15H15O5
B.高良姜素分子中含有3个羟基、8个双键
C.高良姜素能与碳酸钠溶液、溴水、酸性高锰酸钾溶液等反应
D.1mol高良姜素与足量的钠反应生成33.6LH2

分析 有机物含有酚羟基、羰基、羟基和碳碳双键,结合苯酚、酮、醇以及烯烃的性质解答该题.

解答 解:A.由结构简式可知高良姜素的分子式为C15H12O5,故A错误;
B.分子含有两个苯环,只有1个碳碳双键,故B错误;
C.含有酚羟基,可与碳酸钠溶液反应、溴水反应,含有碳碳双键,可与溴水发生加成反应,可被酸性高锰酸钾氧化,故C正确;
D.含有3个羟基,但生成氢气存在的外界条件未知,不能确定体积大小,故D错误.
故选C.

点评 本题考查有机物的结构和性质,侧重于有机物的组成、结构和性质的考查,注意有机物空间结构特点的判断,把握有机物的官能团的种类和性质,为解答该题的关键,易错点为D,注意气体存在的外界条件的判断,题目难度不大.

练习册系列答案
相关习题

科目:高中化学 来源: 题型:实验题

8.ClO2是一种高效水处理剂,某实验小组用如图所示装置制取并收集ClO2.已知:
信息内容
ClO2为黄绿色气体,极易溶于水,熔点为-59℃,沸点为11℃,具有强氧化性
ClO2易爆炸,若用惰性气体等稀释,则爆炸的可能性大降低
HClO4、HClO2均是强酸,HClO4为无色透明液体,沸点为90℃;HClO2很不稳定,容易分解
(1)仪器a名称是圆底烧瓶.装置A中反应的化学方程式为2KClO3+H2C2O4=K2CO3+CO2↑+2ClO2↑+H2O.用H2C2O4、稀硫酸和KClO3制备ClO2的最大优点是二氧化氯被二氧化碳稀释,可防止二氧化氯爆炸.
(2)装置C的作用是防止倒吸,装置B中用冰水浴的目的是冷凝并分离出二氧化氯.
(3)工业上生产HClO4和NaClO2的工艺流程如图所示.

①操作2的名称是蒸馏;
②设计简单实验证明HClO2为弱酸:在常温下测定NaClO2溶液的PH值,若PH值大于7,则为HClO2弱酸.
(4)ClO2很不稳定,需用随制,产物用水吸收得到ClO2溶液,为测定所得溶液中ClO2的含量,进行下列实验:
步骤1:准确量取V1 mLClO2溶液于锥形瓶中.
步骤2:用稀硫酸调节ClO2溶液的pH≤2.0,加入足量的KI晶体,静置片刻.
步骤3:加入指示剂,用c mol•L-1•的Na2S2O3溶液滴定至终点,消耗Na2S2O3溶液V2mL.
实验中加入的指示剂是淀粉溶液,达到滴定终点时的现象是溶液由蓝色变为无色,且保持30s不变.
原溶液中ClO2的含量为$\frac{13.5cV{\;}_{2}}{V{\;}_{1}}$g/L(用含字母的代数式表示)g•L-1.(已知:2ClO2+8H++10I-═2Cl-+5I2+4H2,2S2O32-+I2═2I-+S2O32-

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科目:高中化学 来源: 题型:选择题

9.在密闭容器中盛有H2、O2、Cl2三种气体,电火花点燃后,三种气体都正好反应完全,冷却到室温,所得溶液的质量分数为25.26%,则原混合气体中三者的分子个数之比为(  )
A.15:8:1B.13:6:1C.9:6:1D.6:3:1

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科目:高中化学 来源: 题型:选择题

6.设NA为阿伏伽德罗常数的值,下列说法正确的是(  )
A.1mol苯分子中含有C═C键的数目为3NA
B.含1molNa2CO3的溶液中,阴离子总数大于NA
C.1molFeI2与足量氯气反应时转移的电子数为2NA
D.标准状况下,22.4L空气中含有的氧原子数为2NA

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科目:高中化学 来源: 题型:解答题

13.元素单质及其化合物有广泛用途,请根据周期表中第三周期元素相关知识回答下列问题:
(1)按原子序数递增的顺序(稀有气体除外),以下说法正确的是b.
a.原子序数和离子半径均减小               b.金属性减弱,非金属性增强
c.氧化物对应的水合物碱性减弱,酸性增强    d.单质的熔点降低
(2)原子最外层电子数与次外层电子数相同的元素名称为氩
(3)已知:
化合物MgOAl2O3MgCl2AlCl3
类型离子化合物离子化合物离子化合物共价化合物
熔点/℃28002050714191
工业制镁时的反应方程式是MgCl2$\frac{\underline{\;电解\;}}{\;}$Mg+Cl2↑;制铝时,电解Al2O3不电解AlCl3的原因是熔融状态下氯化铝以分子存在,不导电,所以用电解熔融氧化铝的方法冶炼.
(4)晶体硅(熔点1410℃)是良好的半导体材料.由粗硅制纯硅过程如下:
Si(粗)$→_{460}^{Cl_{2}}$SiCl4$\stackrel{蒸馏}{→}$SiCl4(纯)$→_{1100℃}^{H_{2}}$Si(纯)
写出SiCl4的电子式:;在上述由SiCl4制纯硅的反应中,测得每生成1.12kg纯硅需吸收akJ热量,该反应的热化学方程式:SiCl4(g)+2H2(g)$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si(s)+4HCl(g)△H=-0.025kJ/mol
(5)P2O5是非氧化性干燥剂,下列气体不能用浓硫酸干燥,可用P2O5干燥的b:
a. NH3        b. HI        c. SO2      d. CO2
(6)KClO3可用于实验室制O2,若不加催化剂,400℃时分解只生成两种盐,其中一种是无氧酸盐,另一种盐的阴阳离子个数比为1:1.写出该反应的化学方程式:4KClO3$\frac{\underline{\;400℃\;}}{\;}$KCl+3KClO4

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科目:高中化学 来源: 题型:解答题

3.使用SNCR脱硝技术的主反应为:
4NH3(g)+4NO(g)+O2(g)4N2(g)+6H2O(g);△H
副反应及773K时平衡常数如表所示
反应△H(kJ•mol-1平衡常数(K)
4NH3 (g)+5O2 (g)?4NO (g)+6H2O (g)-905.51.1×1026mol•L-1
4NH3 (g)+4O2 (g)?2N2O (g)+6H2O (g)-1104.94.4×1028
  4NH3 (g)+3O2 (g)?2N2 (g)+6H2O (g)-1269.07.1×1034L•mol-1
(1)主反应△H=-1632.5kJ•mol-1,773K时主反应平衡常数K=4.6×1043L•mol-1
(2)图2表示在密闭体系中进行实验,起始投入一定量NH3、NO、O2,测定不同温度下,在相同时间内各组分的浓度.
①图中a、b、c三点,主反应速率最大的是c
②试解释N2浓度曲线先上升后下降的原因先上升:反应还未到达平衡状态,温度越高,化学反应速率越快,单位时间内N2浓度越大;后下降:达到平衡状态后,随着温度升高,因反应正向放热,平衡逆向移动,且随温度升高有副产物的生成,N2浓度降低.
③550K时,欲提高N2O的百分含量,应采取的措施是采用合适的催化剂
(3)电化学催化净化NO是一种最新脱硝方法.原理示意图如图1,固体电解质起到传导O2-的作
用.
A为外接电源的负极(填“正”、“负”).通入NO的电极反应式为2NO+4e-=N2+2O2-

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科目:高中化学 来源: 题型:解答题

10.金属的表面处理可以使金属制品美观耐用,我国2000多年前就已经掌握化学镀铬即铬盐氧化处理技术,现代工业中常采用电镀或化学镀进行金属表面处理.请回答:
(1)化学镀金是借助合适的还原剂,使镀液中金属离子还原沉积到金属表面.如化学镀镍是在酸性环境下以NaH2PO2为还原剂(氧化生成NaH2PO3)使Ni2+还原,其离子方程式为Ni2++H2PO2-+H2O=Ni+H2PO3-+2H+

(2)工业上进行电镀时,待镀金属作为阴极.电镀铬若采用Cr3+的简单水溶液,电镀过程中阴极附近的pH与电镀时间的关系如图1,pH变化的原因是H+参与放电,上述过程的发生对镀层产生的影响是镀层变薄且不均匀;
(3)为防止上述过程发生,电镀铬可以在硫酸盐溶液体系中进行,图2为硫酸盐溶液中Cr3+的浓度对镀层厚度和覆盖范围的影响,随厚度增加,镀层覆盖范围变化的原因可能是Cr3+浓度增加会使镀层加厚,但浓度增加铬晶粒变大使覆盖范围变小;
(4)综合考虑镀层厚度及覆盖范围,电镀铬时温度以30~40℃为佳,工业上控制反应温度的设备名称为热交换器;电镀铬的过程中阳极会产生部分Cr2O72-,可以加入AB(填字母)除去;
A.H2O2   B.Na2SO3    C.FeSO4
(5)工业采用含Cr3+为3.25g/L的电解液电镀铬,则溶液pH不能大于4.(已知:35℃时,Kw=2.0×10-14,Ksp[Cr(OH)3]=5.0×10-31

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科目:高中化学 来源: 题型:选择题

7.下列有关溶液组成的描述合理的是(  )
A.由水电离出的c(H+)=10-13mol/L的溶液中可能存在:HCO3-、K+、Cl-
B.酸性溶液中可能大量存在Na+、ClO-、I-
C.pH=l的溶液中的溶液中可以大量存在:K+、I-、NO3-
D.NH4Fe(SO42的溶液中一定可以存在:H+、Br-

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科目:高中化学 来源: 题型:选择题

8.用32gCu与300mL12mol/L的浓硝酸反应,当铜全部溶解后,共收集到标准状况下的气体11.2L(不考虑NO2转化为N2O4),反应消耗的硝酸的物质的量是(  )
A.1.5molB.1.8molC.3.3molD.3.6mol

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同步练习册答案