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    SiO2在高温下可发生反应：SiO2+3C═SiC+2CO↑，该反应中氧化剂与还原剂的质量比是（　　）
    A．1：2B．2：1C．1：3D．1：1
    因SiO2+3C═SiC+2CO↑中，碳元素的化合价既升高又降低，
    则碳既是氧化剂又是还原剂，
    碳由0降低为-4价时，作氧化剂，
    碳由0升高到+2价时，作还原剂，
    由方程式中的碳原子守恒，
    则氧化剂与还原剂的物质的量之比为1：2，
    即该反应中氧化剂与还原剂的质量比是1：2，
    故选A．
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    科目：高中化学 来源： 题型：

    （2011?泰州一模）近年来高锰酸钾在饮用水和工业污水处理领域的消费增长较快．实验室可用软锰矿（主要成分MnO2）为原料制备高锰酸钾．其部分流程如下：

    （1）实验中采用铁坩埚而不用瓷坩埚的原因是
    在高温下，瓷坩埚可以和KOH发生反应SiO2+2KOH═K2SiO3+H2O，腐蚀瓷坩埚
    在高温下，瓷坩埚可以和KOH发生反应SiO2+2KOH═K2SiO3+H2O，腐蚀瓷坩埚
    ；
    （2）KOH、KClO3、MnO2共熔制得绿色K2MnO4的化学方程式
    KClO3+3MnO2+6KOH
     高温 
    .
     
    KCl+3K2MnO4+3H2O，
    KClO3+3MnO2+6KOH
     高温 
    .
     
    KCl+3K2MnO4+3H2O，
    ；
    （3）通入CO2，可使MnO42-发生歧化反应，生成MnO4-及MnO2，则K2MnO4完成反应时，转化为KMnO4的百分率约
    66.7%
    66.7%
    （精确至0.1%）
    （4）若通入CO2太多，则在加热浓缩时，会有
    KHCO3
    KHCO3
    晶体和KMnO4晶体一起析出．
    （5）在加热、浓缩、烘干的过程中温度不宜过高，其原因是
    温度过高会导致KMnO4分解
    温度过高会导致KMnO4分解
    ；加热时用玻璃棒不停搅拌溶液的目的是
    受热均匀，有利于蒸发溶剂
    受热均匀，有利于蒸发溶剂
    ．

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    科目：高中化学 来源：2014届浙江省杭州市七校高三上学期期中联考化学试卷（解析版） 题型：填空题

    清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一，硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质（如某些有机物，无机盐，金属、Si、SiO2粉尘等）。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物，通常用一定浓度的HF溶液，室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面，增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反应25～35 min，效果良好。

    回答下列问题

    （1）能否用玻璃试剂瓶来盛HF溶液，为什么?用化学方程式加以解释                           ；

    （2）写出晶片制绒反应的离子方程式                                    ，对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型，他指出Si与NaOH溶液的反应，首先是Si与OH一反应，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反应中氧化剂为                     。

    （3）本校化学兴趣小组同学，为验证Seidel的理论是否正确，完成以下实验：

     

    实验事实

    事实一

    水蒸汽在600℃时可使粉末状硅缓慢氧化并放出氢气。

    事实二

    盛放于铂或石英器皿中的纯水长时间对粉末状还原硅无腐蚀作用。

    事实三

    普通玻璃器皿中的水仅因含有从玻璃中溶出的微量的碱便可使粉末状硅在其中缓慢溶解。

    事实四

    在野外环境里，用较高百分比的硅铁粉与干燥的Ca(OH)2和NaOH，点着后焖烧，可剧烈放出H2。

    事实五

    1g（0.036mo1）Si和20mL含有lgNaOH（0.025mol）的溶液，小心加热（稍微预热），收集到约1700mL H2，很接近理论值（1600mL）。

     

    结论：从实验上说明碱性水溶液条件下，H2O可作                 剂；NaOH作               剂，降低反应             。高温无水环境下，NaOH作               剂。

    （4）在太阳能电池表面沉积深蓝色减反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH4）与氨气（NH3）在等离子体中反应。硅烷是一种无色、有毒气体，常温下与空气和水剧烈反应。下列关于硅烷、氮化硅的叙述不正确的是                。

    A．在使用硅烷时要注意隔离空气和水，SiH4能与水发生氧化还原反应生成H2；

    B．硅烷与氨气反应的化学方程式为：3SiH4+4NH3＝Si3N4+12H2↑，反应中NH3作氧化剂；

    C．它们具有卓越的抗氧化、绝缘性能和隔绝性能，化学稳定性很好，不与任何酸、碱反应；

    D．氮化硅晶体中只存在共价键，Si3N4是优良的新型无机非金属材料。

     

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