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(2004·广东)溶液中含少量杂质,为制备晶体,拟定实验步骤如下(已知:有还原性,有氧化性):

请回答下列问题:

(1)最适宜的氧化剂是

[  ]

A.
B.
C.
D.

(2)物质Y是________;

(3)除去的有关化学方程式是________________________________;

(4)为了防止水解,要得到,还应控制的一定条件是_______

_________________________.

答案:略
解析:

答案:(1)C (2)CuO

(3)

(4)加入浓盐酸或在氯化氢的气氛中

解析:(1)虽然NaClO都可以将氧化,但同时也混入了杂质.而则被还原成为,故采用(2)加入Y的目的是为了降低溶液中的浓度,以促进的水解,使完全转化为沉淀.但加入Y不能混入杂质,故Y可以是CuO(3)(4)加入浓盐酸或在氯化氢气氛中,以抑制的水解.


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[  ]

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(1)以上处理过程会对大气造成污染,电线外皮燃烧、玻璃纤维基板被烧毁都会产生的剧毒物质有________。

(2)显像管含有大量的________等重金属,大量无机酸________进入水及土壤,有毒物质渗入地下、严重污染了水源。使土壤、水源失去了利用价值。

(3)简述上述做法的主要危害是________________________________________________。

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