【题目】下列四位科学家中,首先提出原子有核结构模型的是
A.卢瑟福B.波尔C.汤姆生D.道尔顿
科目:高中化学 来源: 题型:
【题目】下列离子方程式书写正确的是( )
A. 金属钠加入到CuSO4溶液中:2Na+Cu2+===Cu+2Na+
B. 将铝片打磨后置于NaOH溶液中:2Al+2OH-===2AlO+H2↑
C. 向明矾溶液中加入过量的Ba(OH)2溶液:Al3++2SO+2Ba2++4OH- === 2BaSO4↓+AlO+2H2O
D. 向Ba(AlO2)2溶液中通入少量CO2:2AlO+CO2+3H2O===2Al(OH)3↓+CO
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科目:高中化学 来源: 题型:
【题目】通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅,粗硅(合铁、铝、硼、磷等杂质)与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500℃),四氧化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。(D的硬质玻璃管中盛装粗硅)
相关信息如下:a.四氧化硅遇水极易反应生成硅酸和氯化氢;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — |
熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | — |
升华温度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题:
(1)写出用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅的化学方程式_________________________。
(2)写出装置A中发生反应的离子方程式__________________________________。
(3)装置A中g管的作用是_________________;装置C中的试剂是____________;
(4)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过多次蒸馏得到高纯度四氯化硅,蒸馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。
(5)写出尾气处理装置中发生反应的离子方程式___________________________。
(6)本题实验装置中有一明显的不足之处,请简述你的改进方案及理由: ___________。
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科目:高中化学 来源: 题型:
【题目】在甲、乙、丙三个不同密闭容器中按不同方式投料,一定条件下发生反应(起始温度和起始体积相同):N2(g)+3H2(g)2NH3(g) △H<0,相关数据如下表所示:
容器 | 甲 | 乙 | 丙 |
相关条件 | 恒温恒容 | 绝热恒容 | 恒温恒压 |
反应物投料 | lmolN2、3molH2 | 2molNH3 | 2molNH3 |
平衡时容器体积 | V甲 | V乙 | V丙 |
反应的平衡常数K | K甲 | K乙 | K丙 |
平衡时NH3的浓度/mol/L | c甲 | c乙 | c丙 |
平衡时NH3的反应速率/mol/(L·min) | v甲 | v乙 | v丙 |
下列说法正确的是
A. V甲>V丙 B. K乙>K丙 C. c乙>c甲 D. V甲=V丙
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科目:高中化学 来源: 题型:
【题目】反应2KMnO4+16HCl(浓)═2KCl+2MnCl2+5Cl2↑+8H2O.下列叙述不正确的是( )
A. 氧化剂为KMnO4,其中Cl元素被还原
B. 若有0.5molCl2生成,则反应中有NA个电子转移
C. 浓HCl在反应中起酸性和还原性的作用
D. 若消耗0.4mol氧化剂,则被氧化的还原剂的物质的量为2mol
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