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    （06年天津卷）某温度下，体积一定的密闭容器中进行如下可逆反应：

    X(g)＋Y(g)Z(g)＋W(s)：△H＞0

    下列叙述正确的是（）

    A  加入少量W，逆反应速率增大    B  当容器中气体压强不变时，反应达到平衡

    C  升高温度，平衡逆向移动        D  平衡后加入X，上述反应的△H增大

     

    答案：B

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    科目：高中化学 来源：物理教研室 题型：013

    （2003年天津高考理综卷）某温度下，在一容积可变的容器中，反应2A（g）＋B（g）

    ?2C（g）达到平衡时，A、B和C的物质的量分别为4mol、2mol和4mol。保持温度和压强不变，对平衡混合物中三者的物质的量作如下调整，可使平衡右移的是

    (  )

    A. 均减半

    B. 均加倍

    C. 均增加1mol

    D. 均减少1mol

     

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    （08年山东卷）某温度时，BaSO4在水中的沉淀溶解平衡曲线如图所示。下列说法正确的是（   ）

    A．加入Na2SO4可以使溶液由a点变到b点

    B．通过蒸发可以使溶液由d点变到c点

    C．d点无BaSO4沉淀生成

    D．a点对应的Kap大于c点对应的Kap

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    （06年天津卷）（19分）晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：

    ①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

    ②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3：Si＋3HClSiHCl3＋H2

    ③SiHCl3与过量H2在1000～1100℃反应制得纯硅

    已知SiHCl3，能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。

    请回答下列问题：

    （1）第①步制备粗硅的化学反应方程式为           。

    （2）粗硅与HCl反映完全后，经冷凝得到的SiHCl3（沸点33.0℃）中含有少量SiCl4（沸点57.6℃）和HCl（沸点－84.7℃），提纯SiHCl3采用的方法为              。

    （3）用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）：

    ①装置B中的试剂是          。装置C中的烧瓶需要加热，其目的是           。

    ②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是            ，装置D不能采用普通玻璃管的原因是                 ，装置D中发生反应的化学方程式为                 。

    ③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及                              。

    ④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂（填写字母代号）是                     。

    a．碘水    b．氯水    c．NaOH溶液    d．KSCN溶液    e．Na2SO3溶液

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    （06年江苏卷）某化学科研小组研究在其他条件不变时，改变某一条件对化学平衡的影响，得到如下变化规律（图中P表示压强，T表示温度，n表示物质的量）：

    根据以上规律判断，下列结论正确的是（）

    A．反应Ⅰ：△H＞0，P2＞P1

    B．反应Ⅱ：△H＜0，T1＞T2

    C．反应Ⅲ：△H＞0，T2＞T1；或△H＜0，T2＜T1

    D．反应Ⅳ：△H＜0，T2＞T1

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