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    如图为刻蚀在玻璃上的精美的花纹图案，则该刻蚀过程中发生的主要化学反应为(   )
    A．CaCO3＋2HCl=CaCl2＋H2O＋CO2↑
    B．NaHCO3＋HCl=NaCl＋H2O＋CO2↑
    C．Si＋4HF=SiF4↑＋2H2↑
    D．SiO2＋4HF=SiF4↑＋2H2O
    D
    因为玻璃中含有SiO2，而SiO2能与氢氟酸发生反应：SiO2＋4HF=SiF4↑＋2H2O，所以可以用氢氟酸来刻蚀玻璃。
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    科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

    工业上制造金刚砂(SiC)的反应的化学方程式为SiO2+3CSiC+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂与还原剂的物质的量之比是(    )
    A．1∶2                    B．2∶1
    C．1∶1                    D．3∶5

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

    Al2O3·2SiO2·2H2O是                                   
    A．混合物
    B．两种氧化物的水化物
    C．硅酸盐
    D．铝酸盐

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

    我国具有独立知识产权的电脑芯片“龙芯一号”的问世，填补了我国计算机制造史上的一项空白．下列对晶体硅的有关叙述正确的是
    A．晶体硅和金刚石的物理性质相似
    B．硅在地壳中含量居第二位，可以以游离态存在于自然界中
    C．晶体硅是一种良好的半导体材料，但是它提炼工艺复杂，价格昂贵
    D．晶体硅具有金属光泽，故它属于金属材料，可以导电

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：填空题

    石墨在加热和高压的条件下可加工成金刚石，这个变化是_____________（物理、化学）变化。

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：填空题

    工业生产粗硅的主要原理为：SiO2+2C  3273K Si(粗)+2CO↑。
    （1）若在制粗硅的过程中同时生成了碳化硅，且生成的硅和碳化硅的物质的量之比为5∶1，则参加反应的C和SiO2的质量比为       ?            。
    （2）工业上可通过如下流程由粗硅制取纯硅：

    +氢气

     
    +氯气
     
    提纯
     
     


    Si(粗)             SiCl4(l)                        Si(纯)
    若上述反应中Si(粗)和SiCl4的利用率均为80%，制粗硅时有10%的SiO2转化为SiC，则生产100.8t纯硅需纯度为75%的石英砂多少吨？
    （3）工业上还可以通过下图所示的流程来制取纯硅：
     
    反应①： Si(粗)+3HCl(g)   553~573K  SiHCl3(l)+H2(g)
    反应②： SiHCl3+H2   1373K  Si(纯)+3HCl
    假设在每一轮次的投料生产中，硅元素没有损失，反应①中HCl的利用率为75%，反应②中H2的利用率为80%，则在下轮次的生产中，需补充投入HCl和H2的体积比为多少？

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：填空题

    物质A是一种高熔点化合物，不溶于硫酸，硝酸等强酸。A与纯碱熔融反应，生成化合物B，同时放出气体C；把气体C通过B的溶液中，则得到化合物D；D在干燥空气中转变为化合物E；将E加热又得到化合物A。试写出A、B、C、D、E的化学式：A____、B____、C____、D____、E____。

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