【题目】硅芯片是各种计算机、微电子产品的核心.工业上通过以下反应将自然界的二氧化硅转化为硅:SiO2+2C Si+2CO↑,下列针对该反应的分析不正确的是( )
A.属于置换反应
B.碳发生了还原反应
C.二氧化硅是氧化剂
D.24g碳充分反应生成28g硅
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【题目】下表是元素周期表的一部分,回答下列有关问题:
(1)写出下列元素名称:②_________;___________。
(2)在这些元素中,金属性最强的元素是______(用元素符号表示),元素⑨与元素⑩相比,非金属性较强的是___________(用元素符号表示)。下列表述中能证明这一事实的是______________。
a.常温下⑨的单质和⑩的单质状态不同
b. ⑩的氢化物比⑨的氢化物稳定
c.一定条件下⑨和⑩的单质都能与氢氧化钠溶液反应
(3)⑦的最高价氧化物对应水化物与⑩的最高价氧化物对应水化物反应的离子方程式为:______。
(4)②的气态氢化物与HC1在空气中相遇有白烟生成,写出白烟对应物质的电子式_________。
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【题目】下列各组物质,前者属于电解质,后者属于非电解质的是( )
A.NaCl晶体、碱石灰B.铜、二氧化硫
C.液态的HCl、酒精D.KNO3溶液、CO2
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【题目】化合物AX3和单质X2在一定条件下反应可生成化合物AX5 . 回答下列问题.
(1)已知AX3的熔点和沸点分别为﹣93.6℃和76℃,AX5的熔点为167℃.室温时AX3与气体X2反应生成1mol AX5 , 放出热量123.8kJ.该反应的热化学方程式为 .
(2)反应AX3(g)+X2(g)AX5(g)在容积为10L的密闭容器中进行.起始时AX3和X2均为0.2mol.反应在不同条件下进行,反应体系总压强随时间的变化如图所示.
①下列不能说明反应达到平衡状态的是 .
A.混合气体的平均相对分子质量保持不变
B.混合气体密度保持不变
C.体系中X2的体积分数保持不变
D.每消耗1molAX3同时消耗1molAX5
②计算实验a从反应开始至达到平衡时的反应速率v(AX5)=(保留2位有效数字).
③图中3组实验从反应开始至达到平衡时的反应速率v(AX5)由大到小的次序为 (填实验序号);与实验a相比,其他两组改变的实验条件及判断依据是:b、c . 该反应在实验a和实验c中的化学平衡常数的大小关系是KaKc(填“>、<或=”),其中Kc=(保留小数点后1位).
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【题目】已知元素X、Y的核电荷数分别是a和b,它们的离子Xm+和Yn﹣的核外电子排布相同,则下列关系式中正确的是( )
A.a=b+m+n
B.a=b﹣m+n
C.a=b+m﹣n
D.a=b﹣m﹣n
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【题目】光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):
已知:
Ⅰ.(R,R’为烃基或氢)
Ⅱ. (R,R’为烃基)
(1)写出A的结构简式__________。
(2)B分子中所含官能团的名称为__________。
(3)乙炔和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则EF的化学方程式为____________。
(4)由F到G的反应类型为__________。
(5)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为__________。
(6)C的一种同分异构体满足下列条件:
①能发生银镜反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应
②苯环上的一氧取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式:_________。
(7)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。合成路线流程图示例如下:
_______________________
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【题目】向一容积为5L的恒容密闭容器中充入5molA与8molB,在一定条件下反应:2A(g)+3B(g)xC(g)+yD(g) (x、y为正整数),反应进行2min后达到平衡,这2min内平均反应速率v(C)=0.3mol/(Lmin),D的平衡浓度为0.3mol/L,又知v(B):v(C)=3:2,则下列说法中正确的是( )
A.x:y=3:1
B.v(A):v(C)=2:1
C.A的平衡浓度为0.4mol/L
D.A与B的平衡浓度之比为3:2
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【题目】有机物的结构可用“键线式”简化表示,如:CH3-CH=CH-CH3可表示为 ,有一种有机物X键线式为下列关于有机物X的叙述错误的是
A. X的分子式为C8H8O3
B. 有机物Y足X的同分异构体,含有苯环、能与NaHC03溶液反应、且有三个取代基,则Y的结构有8种
C. X分子中的所有原子不可能在同一平面内
D. X能发生加成反应,取代反应,并能使溴水、酸性KMnO4溶液褪色
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