A. | 制备的晶体硅可用于制作计算机芯片 | |
B. | 该法制备高纯硅,可以综合利用氯气和氢气,使原料循环利用,生产成本低,效率高 | |
C. | 该过程是把硅转化为SiHCl3与杂质分离,而后用氢气还原得到高纯硅 | |
D. | 整个制备过程中若混有氧气可以不除去 |
分析 A、Si单质为半导体,纯净的硅晶体可用于制作计算机芯片;
B、循环利用提高原料的利用率,降低生产成本;
C、根据反应SiHCl3(g)+H2(g)$\frac{\underline{\;一定条件\;}}{\;}$Si(s)+3HCl(g)分析解答;
D、混有氧气会与过程中产生的氢气混合发生爆炸.
解答 解:A、Si单质为半导体,纯净的硅晶体可用于制作计算机芯片,所以制备的晶体硅可用于制作计算机芯片,故A正确;
B、循环利用提高原料的利用率,降低生产成本,故B正确;
C、根据反应SiHCl3(g)+H2(g)$\frac{\underline{\;一定条件\;}}{\;}$Si(s)+3HCl(g),所以可把硅转化为SiHCl3与杂质分离,而后用氢气还原得到高纯硅,故C正确;
D、混有氧气会与过程中产生的氢气混合发生爆炸,所以整个制备过程中若混有氧气要除去,故D错误;
故选D.
点评 本题考查物质的性质及用途、硅的冶炼方法,难度不大.要注意根据物质的性质分析其用途.
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A. | X在常温下不能稳定存在 | |
B. | X的性质与烯烃类似,容易发生加成反应 | |
C. | X不能使酸性KMnO4溶液褪色 | |
D. | 充分燃烧等质量的X和甲烷,X消耗氧气比甲烷少 |
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