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    （18分）近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、碱性的（NH3—NH4Cl）以及传统的（HCl—FeCl3）等3种。蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种蚀刻废液的常用处理方法如下：

     

    ⑴ FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂，可回收铜并使蚀刻液再生。发生的主要化学反应有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还

    有　　▲　　  、　　▲　　  。（用离子方程式表示）。

    ⑵ HCl—H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：

    　　▲　　  。

    ⑶ H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中，加入的试剂A的最佳选择是下列中的　　▲　　  （填序号）

    ①酸性KMnO4溶液        ②NaCl(固)          ③葡萄糖          ④甲醛

    ⑷ 处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是　　▲　　  。

    ⑸ 碱性蚀刻液发生的化学反应是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2 = 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是　　▲　　  。

     

    【答案】

    ．⑴ Fe+2Fe3+=3Fe2+、2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-

    ⑵ Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O

    ⑶ ③

    ⑷ 温度高会使产物部分分解产生黑色的氧化铜导致产品颜色发暗

    ⑸ 促使溶液中Cu(NH3)4Cl2结晶析出

    【解析】略

     

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    （2011?姜堰市二模）近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、碱性的（NH3-NH4Cl）以及传统的（HCl-FeCl3）等3种．蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失．几种蚀刻废液的常用处理方法如下：


    （1）FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂，可回收铜并使蚀刻液再生．发生的主要化学反应有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还有
    Fe+2Fe3+=3Fe2+
    Fe+2Fe3+=3Fe2+
    、
    2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-
    2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-
    ．（用离子方程式表示）．
    （2）HCl-H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：
    Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O
    Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O
    ．
    （3）H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中，加入的试剂A的最佳选择是下列中的
    ③
    ③
    （填序号）
    ①酸性KMnO4溶液        ②NaCl（固）          ③葡萄糖          ④甲醛
    （4）处理H2O2型酸性废液回收Cu2（OH）2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是
    温度高会使产物部分分解产生黑色的氧化铜导致产品颜色发暗
    温度高会使产物部分分解产生黑色的氧化铜导致产品颜色发暗
    ．
    （5）碱性蚀刻液发生的化学反应是：2Cu+4NH4Cl+4NH3?H2O+O2=2Cu（NH3）4Cl2+6H2O，处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是
    促使溶液中Cu（NH3）4Cl2结晶析出
    促使溶液中Cu（NH3）4Cl2结晶析出
    ．

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    （12分）近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、碱性的（NH3—NH4Cl）以及传统的（HCl—FeCl3）等3种。蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种蚀刻废液的常用处理方法如下：

    ⑴ FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂，可回收铜并使蚀刻液再生。发生的主要化学反应有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还

    有　　  　　 、　　     　　  。（用离子方程式表示）。

    ⑵ HCl—H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：

    　　   　            　  。

    ⑶ H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中，加入的试剂A的最佳选择是下列中的　  　　  （填序号）

    ①酸性KMnO4溶液       ②NaCl(固)         ③葡萄糖          ④甲醛

    ⑷ 处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是　　   　　  。

    ⑸ 碱性蚀刻液在蚀刻过程中发生的化学反应是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2= 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是　　   　　  。

     

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    科目：高中化学 来源：2012届江苏省淮州中学高三上学期10月份月考化学试卷 题型：实验题

    （18分）近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、碱性的（NH3—NH4Cl）以及传统的（HCl—FeCl3）等3种。蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种蚀刻废液的常用处理方法如下：

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    ⑸ 碱性蚀刻液发生的化学反应是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2 = 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是　　▲　　 。

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    科目：高中化学 来源：2011-2012学年浙江省高三上学期期中考试化学试卷 题型：填空题

    （12分）近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、碱性的（NH3—NH4Cl）以及传统的（HCl—FeCl3）等3种。蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种蚀刻废液的常用处理方法如下：

    ⑴ FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂，可回收铜并使蚀刻液再生。发生的主要化学反应有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还

    有　　  　　  、　　     　　  。（用离子方程式表示）。

    ⑵ HCl—H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：

    　　   　             　  。

    ⑶ H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中，加入的试剂A的最佳选择是下列中的　   　　  （填序号）

    ①酸性KMnO4溶液        ②NaCl(固)          ③葡萄糖          ④甲醛

    ⑷ 处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是　　   　　  。

    ⑸ 碱性蚀刻液在蚀刻过程中发生的化学反应是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2 = 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是　　   　　  。

     

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