【题目】根椐如图实验装置进行下列实验,能得出相应实验结论的是
选项 | I中物质 | II中物质 | III中物质 | 实验结论 |
A | 炭粉与浓硫酸 | 品红 | 澄清石灰水 | 有CO2和SO2生成 |
B | 软锰矿与浓盐酸 | NaBr溶液 | KI淀粉溶液 | 还原性:I->Br->Cl- |
C | 铜与浓硫酸 | 酸性KMnO4溶液 | H2S溶液 | SO2具有还原性、氧化性 |
D | 铜与浓硝酸 | 水 | FeSO4溶液 | 装置I中生成了NO |
(己知:FcSO4溶液吸收NO后,液面产生棕黄色的环,实验室用此现象检验NO)
A. A B. B C. C D. D
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【题目】据报道,美国科学家制得一种新原子283116X,它属于一种新元素,是116号元素(元素符号用X代替),关于它的推测正确的是
A. 这种原子的中子数为167
B. 它位于元素周期表中第六周期
C. 这种元素一定是过渡元素
D. 这种元素的原子易与氢气化合
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【题目】根据题意填空
(1)等温、等压下,等体积的O2和O3所含分子个数比 , 质量比为 .
(2)已知16g A和20g B恰好完全反应生成0.04mol C和31.76g D,则C的摩尔质量为 .
(3)在三个密闭容器中分别充入Ne、H2、O2三种气体,当它们的温度和密度都相同时,这三种气体的压强(p)分别用p(Ne) p(H2) p(O2)表示,由大到小的顺序是
(4)某溶液中可能存在下列阴离子:Cl﹣、SO42﹣、CO32﹣中的一种或几种.当溶液中存在大量H+时,不能在溶液中大量存在;当溶液中存在大量Ag+时,不能在溶液中大量存在.
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【题目】研究表明,雾霾中的无机颗粒主要是硫酸铵和硝酸铵,大气中的氨是雾霾的促进剂。减少氨排放的下列解决方案不可行的是( )
A. 改变自然界氮循环途径,使其不产生氨B. 加强对含氨废水的处理,降低氨气排放
C. 采用氨法对烟气脱硝时,设置除氨设备D. 增加使用生物有机肥料,减少使用化肥
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【题目】根据题意填空
(1)等温、等压下,等体积的O2和O3所含分子个数比 , 质量比为 .
(2)已知16g A和20g B恰好完全反应生成0.04mol C和31.76g D,则C的摩尔质量为 .
(3)在三个密闭容器中分别充入Ne、H2、O2三种气体,当它们的温度和密度都相同时,这三种气体的压强(p)分别用p(Ne) p(H2) p(O2)表示,由大到小的顺序是
(4)某溶液中可能存在下列阴离子:Cl﹣、SO42﹣、CO32﹣中的一种或几种.当溶液中存在大量H+时,不能在溶液中大量存在;当溶液中存在大量Ag+时,不能在溶液中大量存在.
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【题目】在含有nmolFeI2的溶液中通入Cl2,有xmolCl2发生反应。下列说法正确的是()
A. 当时,反应的离子方程式为:2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-
B. 当x≥n时,反应的离子方程式为:2Fe2++2I-+2Cl2=2Fe3++I2+4C1-
C. 当Fe2+和I-同时被氧化时,x与n的关系为x>n
D. 当x=n时,反应后氧化产物的物质的量为nmol
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【题目】某恒温密闭容器发生可逆反应:Z(?)+W (? )X(g) +Y (? ) △H,在t1时刻反应达到平衡。在t2时刻缩小容器体积,t3时刻再次达到平衡状态后未再改变条件。下列有关说法中不正确的是
A. Z和W在该条件下都不可能为气态
B. t1t2时间段与t3时刻后,两时间段反应体系中气体的平均摩尔质量不可能相等
C. 若在该温度下此反应平衡常数表达式为K=c(X), 则t1t2时间段与t3时刻后的X浓度相等
D. 若该反应只在高于某温度T时能自发进行,则该反应的平衡常数K随温度升高而增大
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【题目】二氧化锗被广泛用于制作高纯金属锗、锗的化合物、化工催化剂及医药工业, 某工厂用褐煤烟灰(主要成分为C、GeO2,还有少量Al2O3和SiO2)为原料制备GeO2,其流程如 下:
已知:GeO2不溶于水,不跟水反应,是以酸性为主的两性氧化物,可溶于浓盐酸生成四氯化锗,也可溶于强碱溶液,生成锗酸盐。操作X为蒸馏
(1)褐煤灰中加入NaOH和Na2CO3固体进行焙烧时,要加入过量的粉碎的NaOH和Na2CO3固体,其原因是_________________。写出GeO2与NaOH反应的化学方程式:__________。
(2)为提高含锗化合物的浸出率,除采用水浸取焙烧物2小时外,还可采取的措施有_____________。(写出两条即可)
(3)浸出液中滴加7mol/L盐酸,调节溶液的pH约为11,目的是__________。
(4)滴加7mol/L盐酸使滤液“酸化”,若滤液“酸化”时酸度不够,溶液会出现明显的浑浊,该沉淀物是________________,(写化学式)
(5)GeCl4的沸点是83.1℃,其电子式为______________。
(6)单质锗可用作电子工业的半导体材料。由纯净的GeO2和H2在加热的条件下可制得单质锗.该反应的化学方程式为_________________。
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