[题目]L.M.R.T.W是原子序数依次增大的短周期主族元素.M.T在周期表中的相对位置如下表.L与R原子的最外层电子数相同.R的单质是一种常见的半导体材料.MT 请回答下列问题:(1)T离子的结构示意图为 .元素W在周期表中位于第族.M单质分子的电子式为 .(2)R是组成玻璃的元素之一.不能用带磨口玻璃塞的试剂瓶盛放氢氧化钠溶液的原因是 . (3)下列有关相应元素非金属� 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

【题目】L、M、R、T、W是原子序数依次增大的短周期主族元素，M、T在周期表中的相对位置如下表，L与R原子的最外层电子数相同，R的单质是一种常见的半导体材料。

M
	T

请回答下列问题：

(1)T离子的结构示意图为__________，元素W在周期表中位于第______族，M单质分子的电子式为__________。

(2)R是组成玻璃的元素之一，不能用带磨口玻璃塞的试剂瓶盛放氢氧化钠溶液的原因是(用化学方程式表示)__________。

(3)下列有关相应元素非金属性强弱比较的说法，正确的是(填序号)__________。

a．M的气态氢化物比R的气态氢化物稳定，则非金属性M强于R

b．高温下，L的单质能从R的最高价氧化物中置换出R，则非金属性L强于R

c．W的核电荷数比T多，原子半径比T小，得电子能力强，则非金属性W强于T

(4)工业上可用二氧化硅、氯气和焦炭在高温条件下制备RW4，该反应中除RW4外的另一种产物可用于工业炼铁。制备RW4的化学方程式为______________________________。

【答案】 ⅦA SiO2+2NaOH==Na2SiO3+H2O ac 2Cl2+SiO2+2CSiCl4+2CO

【解析】试题分析：R的单质是一种常见的半导体材料，R是Si元素；L与R原子的最外层电子数相同，L是C元素；L、M、R、T、W是原子序数依次增大，根据M、T在周期表中的相对位置，M是ⅤA族元素、T是ⅥA族元素、W是ⅦA族元素，所以M、T、W分别是N、S、Cl元素。

解析：根据以上分析，(1)S2-的结构示意图为，氯元素在周期表中位于第3周期，第ⅦA族，N2分子中存在氮氮三键，电子式为。

(2)二氧化硅与氢氧化钠反应生成硅酸钠和水，所以不能用带磨口玻璃塞的试剂瓶盛放氢氧化钠溶液，化学方程式为SiO2+2NaOH==Na2SiO3+H2O。

(3)下列有关相应元素非金属性强弱比较的说法，正确的是(填序号)__________。

NH3比SiH4稳定，则非金属性N强于Si，故a增强。

高温下单质碳能从二氧化硅中置换出硅，表现碳的还原性，不能推出非金属性C强于Si，故b错误；

得电子能力越强，非金属性越强，故c正确；

(4)工业上可用二氧化硅、氯气和焦炭在高温条件下生成SiCl4和CO。制备SiCl4的反应方程式为2Cl2+SiO2+2CSiCl4+2CO。

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【题目】在氯化铵溶液中，下列关系式正确的是（）

A. c（Cl－）>c（NH4+）>c（H+）>c（OH－）

B. c（NH4+）> c（Cl－）>c（H+）>c（OH－）

C. c（Cl－）=c（NH4+）>c（H+）=c（OH－）

D. c（NH4+）= c（Cl－）>c（H+）>c（OH－）

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(1)已知：①2O2(g)+N2(g)==N2O4(l) △H1；

②N2(g)+2H2(g)==N2H4(g) △H2；

③O2(g)+2H2(g)==2H2O(g) △H3；

④2N2H4(g) +N2O4(1)==3N2(g)+4H2O(g) △H4。

上述反成热效应之间的关系式为△H4 =_______(用含△H1、△H2、△H3的代数式表示）。

(2)将不同量的H2O(g)和CO(g)分别通入体积为2L的恒容密闭容器中，进行反应：H2O(g)+CO(g) H2(g)+CO2(g)，得到如下表三组数据：