Question

下列反应离子方程式正确的是

1. A.
   FeCl₃溶液刻蚀铜制的印刷电路板：Fe³⁺ +Cu ＝ Fe²⁺ + Cu²⁺
2. B.
   硅酸钠溶液和稀硫酸混合：Na₂SiO₃+2H⁺ ＝ H₂SiO₃↓+2Na⁺
3. C.
   Ba(OH)₂溶液与稀硫酸反应：Ba²⁺+OH^-+H⁺+SO₄^2-＝BaSO₄↓+H₂O
4. D.
   向氯化铝溶液中滴加过量氨水：Al³⁺+3NH₃·H₂O＝Al(OH)₃↓+3NH₄⁺

Answer 1

D
试题分析：A、电子得失不守恒，应该是2Fe³⁺ +Cu ＝ 2Fe²⁺ + Cu²⁺，A不正确；B、硅酸钠是应该用离子符号表示，正确的是SiO₃^2—+2H⁺ ＝H₂SiO₃↓，B不正确；C、不符合定比组分比，应该是Ba²⁺+2OH^－+2H⁺+SO₄^2－＝BaSO₄↓+2H₂O，C不正确；D、氨水是弱碱，不能溶解氢氧化铝，D正确，答案选D。
考点：考查离子方程式的正误判段