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下列反应的离子方程式中,正确的是(双选)(  )

A.二氧化硅和氢氟酸反应:SiO2+4H===Si4+2H2O

B.二氧化硅和氢氧化钾溶液反应:SiO2+2OH===SiO+H2O

C.水玻璃中滴入盐酸:SiO+2H===H2SiO3

D.碳酸钡滴加稀硝酸:CO+2H===H2O+CO2

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科目:高中化学 来源: 题型:


右图是在航天用高压氢镍电池基础上发展起来的一种金属氢化物镍电池(MH-Ni电池)。下列有关说法不正确的是

A.放电时正极反应为:NiOOH+H2O+e→Ni(OH)2+OH

B.电池的电解液可为KOH溶液

C.充电时负极反应为:MH+OH→+H2O+M+e

D.MH是一类储氢材料,其氢密度越大,电池的能量密度越高

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科目:高中化学 来源: 题型:


化学与生活、社会密切相关,下列说法错误的是

   A.过氧化钠可作航天员和潜水员的供氧剂

   B.干冰和碘化银均可用于人工降雨

   C.近年来出现的城市雾霾与汽车尾气的排放无关

D.高铁车厢大部分材料采用铝合金,因为铝合金强度大、质量轻、抗腐蚀能力强

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科目:高中化学 来源: 题型:


单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制

得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度为450℃~500℃),四氯化硅

经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图:

相关信息如下:

①四氯化硅遇水极易水解

②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物

③有关物质的物理常数见下表:

物质

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/℃

57.7

12.8

315

熔点/℃

-70.0

-107.2

升华温度/℃

180

300

162

请回答下列问题:

(1)装置A中g管的作用是               ;装置C中的试剂是          。

(2)甲方案:f接装置Ⅰ;乙方案:f接装置Ⅱ。但是装置Ⅰ、Ⅱ都有不足之处,请你评价后填写下表。

方案

      优点    

缺点

(3)在上述(2)的评价基础上,请你设计一个合理方案并用文字表述:                   

(4)SiCl4与H2反应的化学方程式为                   

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科目:高中化学 来源: 题型:


下列说法错误的是(  )

A.二氧化硅是光导纤维的主要原料

B.硅是信息技术的关键材料

C.陶瓷餐具所用材料为硅酸盐

D.水晶镜片所用原料为硅酸盐

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科目:高中化学 来源: 题型:


向一定浓度的下列物质澄清溶液中通入过量的CO2气体,最后肯定没有沉淀生成的是   (  )

①Ca(OH)2 ②Na2CO3 ③CaCl2 ④Ca(ClO)2

A.①③④        B.②③④       C.①②③       D.①②③④

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科目:高中化学 来源: 题型:


如图所示物质的转化关系中,A是一种固体单质,E是一种白色沉淀。

请回答下列问题:

(1)B的化学式是____________,目前B已被用作________的主要原料。

(2)B和a溶液反应的离子方程式是___________________________________。

(3)A和a溶液反应的离子方程式是___________________________________。

(4)C和过量的盐酸反应的离子方程式是_______________________________。

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科目:高中化学 来源: 题型:


一定温度下在密闭容器内进行着某一反应,X气体、Y气体的物质的量随反应时

间变化的曲线如右图。下列叙述中正确的是(  )

                       

A.反应的化学方程式为5YX

B.t1时,Y的浓度是X浓度的1.5倍

C.t2时,正、逆反应速率相等

D.t3时,逆反应速率大于正反应速率

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科目:高中化学 来源: 题型:


下列除杂方案错误的是

选项

被提纯的物质

杂质

除杂试剂

除杂方法

A

CO(g)

CO2(g)

NaOH 溶液、浓 H2SO4

洗气

B

NH4Cl(aq)

Fe3(aq)

NaOH溶液

过滤

C

Cl2(g)

HCl(g)

饱和食盐水、浓H2SO4

洗气

D

Na2CO3(s)

NaHCO3(s)

灼烧

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