Question

下列反应离子方程式正确的是（　　）

• A、FeCl₃ 溶液刻蚀铜制的印刷电路板：Fe³⁺+Cu=Fe²⁺+Cu²⁺
• B、硅酸钠溶液和稀硫酸混合：Na₂SiO₃+2H⁺=H₂SiO₃↓+2Na⁺
• C、Ba（OH）₂ 溶液与稀硫酸反应：Ba²⁺+OH^-+H⁺+SO₄^2-=BaSO₄↓+H₂O
• D、向氯化铝溶液中滴加过量氨水：Al³⁺+3NH₃?H₂O=Al（OH）₃↓+3NH₄⁺

Answer 1

考点：离子方程式的书写

专题：离子反应专题

分析：A．电子、电荷不守恒；
B．硅酸钠完全电离；
C．不符合离子的配比；
D．反应生成氢氧化铝和氯化铵．

解答： 解：A．FeCl₃ 溶液刻蚀铜制的印刷电路板的离子反应为2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺，故A错误；
B．硅酸钠溶液和稀硫酸混合的离子反应为SiO₃^2-+2H⁺=H₂SiO₃↓，故B错误；
C．Ba（OH）₂ 溶液与稀硫酸反应的离子反应为Ba²⁺+2OH^-+2H⁺+SO₄^2-=BaSO₄↓+2H₂O，故C错误；
D．向氯化铝溶液中滴加过量氨水的离子反应为Al³⁺+3NH₃?H₂O=Al（OH）₃↓+3NH₄⁺，故D正确；
故选D．

点评：本题考查离子反应方程式书写的正误判断，为高频考点，把握发生的反应及离子反应的书写方法为解答的关键，侧重氧化还原反应、复分解反应的离子反应考查，综合性较强，题目难度不大．