通常用饱和NaHCO3溶液除去混在CO2中的少量HCl气体.其反应的离子方程式为 ,不能用NaOH溶液的原因是 ,也不能用Na2CO3溶液吸收的原因是) . 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

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通常用饱和NaHCO₃溶液除去混在CO₂中的少量HCl气体，其反应的离子方程式为；不能用NaOH溶液的原因是

（用离子方程式表示）；也不能用Na₂CO₃溶液吸收的原因是）（用离子方程式表示）。

H⁺ + HCO₃^- === H₂O+ CO₂↑

CO₂ + 2OH^- === H₂O + CO₃^2- CO₂ + CO₃^2- + H₂O === 2HCO₃^-

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科目：高中化学 来源： 题型：

硫代硫酸钠(Na₂S₂O₃)是一种重要的化工产品。某兴趣小组拟制备硫代硫酸钠晶体(Na₂S₂O₃·5H₂O)。

Ⅰ.【查阅资料】

(1)硫代硫酸钠(Na₂S₂O₃)易溶于水，在中性或碱性环境中稳定，受热、遇酸易分解。

(2)Na₂S₂O₃·5H₂O是无色透明晶体，易溶于水，其稀溶液与BaCl₂溶液混合无沉淀生成。

(3)向Na₂CO₃和Na₂S混合溶液中通入SO₂可制得Na₂S₂O₃（反应方程式为：2Na₂S＋Na₂CO₃＋ 4SO₂===3Na₂S₂O₃＋CO₂），所得产品常含有少量Na₂SO₃和Na₂SO₄。

Ⅱ.【制备产品】实验装置如图所示：

请回答下列问题:

(1)实验步骤：检查装置气密性后，向三颈瓶c中加入Na₂CO₃和Na₂S的混合溶液，再将分液漏斗a中液体滴加到烧瓶b中加热发生反应产生SO₂，请写出b中发生反应的化学方程式______________________。待Na₂S和Na₂CO₃完全消耗后，结束反应。过滤c中的混合物，滤液经____________________(填写操作名称)、过滤、洗涤、干燥、得到产品。

(2) 装置A用于处理尾气，可选用的最合理装置(夹持仪器已略去)为________(填序号)。

(3)为了保证硫代硫酸钠的产量，实验中通入的SO₂不能过量，原因是_________。

III.【测定产品纯度】

准确称取W g产品，用适量蒸馏水溶解，以淀粉作指示剂，用0.100 0 mol·L^－1碘的标准溶液滴定。

反应原理为2S₂O＋I₂===S₄O＋2I^－（忽略Na₂SO₃与I₂反应）

(4)滴定至终点时，溶液颜色的变化：_________________________________。

(5)滴定起始和终点的液面位置如图，则产品的纯度为(设Na₂S₂O₃·5H₂O相对分子质量为M)______________。

IV.【探究与反思】

(6)为验证产品中含有Na₂SO₃和Na₂SO₄，该小组设计了以下实验方案，请将方案补充完整。(所需试剂从稀HNO₃、稀H₂SO₄、稀盐酸、蒸馏水中选择)

取适量产品配成稀溶液，滴加足量BaCl₂溶液，有白色沉淀生成， __________________，若沉淀未完全溶解，并有刺激性气味的气体产生，则可确定产品中含有Na₂SO₃和Na₂SO₄。

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科目：高中化学 来源： 题型：

从铝土矿(主要成分是Al₂O₃，含SiO₂、Fe₂O₃、MgO等杂质)中提取氧化铝的两种工艺流程如下：

请回答下列问题：

（1）流程甲加入盐酸后生成Al³^＋的离子方程式为_____________________________________。

（2）流程乙加入烧碱后生成SiO的离子方程式为___________________________。

（3）验证滤液B中含Fe³^＋，可取少量滤液并加入________(填试剂名称)。

（4）滤液E、K中溶质的主要成分是__________(填化学式)，写出该溶液的一种用途：___________。

（5）已知298 K时，Mg(OH)₂的溶度积常数K_sp＝5.6×10^－12，取适量的滤液B，加入一定量的烧碱达到沉淀溶解平衡，测得pH＝13.00，则此温度下残留在溶液中的c(Mg²^＋)＝__________。

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科目：高中化学 来源： 题型：

常温下，某无色透明的溶液中，下列各组离子能够大量共存的是

A．H^＋、Na^＋、Cl^－、CO₃^2－ B． Ba^2＋、Na^＋、SO₄^2－、Cl^－

C．MnO₄^－、K^＋、I^－、H^＋ D． Mg^2＋、Cl^－、NO、H^＋

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科目：高中化学 来源： 题型：

Na、Mg、Al三种金属各2 mol分别跟1L1mol∙L^-1的盐酸反应时，相同条件下放出氢气体积最大的是

A．Al B． Mg C． Na D．三者产生的氢气一样多

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科目：高中化学 来源： 题型：

1．下列溶液一定呈中性的是(　　)

A．pH＝7的溶液

B．[H^＋]＝[OH^－]的溶液

C．由强酸、强碱等物质的量反应得到的溶液

D．非电解质溶于水得到的溶液

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科目：高中化学 来源： 题型：

将pH为3和pH为5的稀盐酸等体积混合，所得溶液的pH为(　　)

A．3.7 B．3.3 C．4.7 D．5.3

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科目：高中化学 来源： 题型：

A、B、C为中学常见单质，其中一种为金属，通常情况下，A为固体，B为黄绿色气体，C为无色气体。D、E、F、G、H、X均为化合物，其中X常温下是无色气体，其水溶液是一种强酸，E为黑色固体，H在常温下为液体。它们之间的转化关系如下图所示(其中某些反应条件和部分反应物已略去)。

请回答下列问题：

（1）写出下列物质的化学式：A__________、D__________、E__________、X_________。

（2）在反应①～⑦中，不属于氧化还原反应的是__________(填编号)。

（3）反应④的离子方程式是_____________________________________________；

（4）反应⑦的化学方程式是_____________________________________________；

该反应中每消耗0.3 mol的A，可转移电子______mol。

（5）写出D的溶液与小苏打溶液反应的离子方程式是________________________

_____________________________________________________________________。

（6）除去D溶液中混有的少量G的方法是_________________________________

_____________________________________________________________________。

（7）在D溶液中制备无水D固体的方法是__________________________________

_____________________________________________________________________。

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科目：高中化学 来源： 题型：

硅单质及其化合物应用范围很广．

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅．

Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450℃～500℃条件下反应制得SiCl₄

Ⅲ.SiCl₄液体经精馏提纯后与过量H₂在1100℃～1200℃条件下反应制得纯硅

已知SiCl₄沸点为57.6℃，能与H₂O强烈反应.1 mol H₂与SiCl₄气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ.

请回答下列问题：

①第Ⅲ步反应的热化学方程式是______________________________________

_______________________________________________________________________。

②整个制备纯硅的过程中必须严格控制无水无氧．SiCl₄在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是____________；H₂还原SiCl₄过程中若混入O₂，可能引起的后果是____________．

③上述生产过程所需氯气和氢气均由氯碱厂提供，氯碱厂的基本设备是离子交换膜电解槽(如图所示)，其中进入阳极室的溶液是__________________________________，b电极上的电极

反应式是______________________________________________________．

（2）二氧化硅被大量用于生产玻璃．工业上用SiO₂、Na₂CO₃和CaCO₃共283 kg在高温下完全反应时放出CO₂ 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na₂SiO₃·CaSiO₃·xSiO₂表示，则其中x＝________。

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