通常用饱和NaHCO3溶液除去混在CO2中的少量HCl气体,其反应的离子方程式为 ;不能用NaOH溶液的原因是
(用离子方程式表示);也不能用Na2CO3溶液吸收的原因是) (用离子方程式表示)。
科目:高中化学 来源: 题型:
硫代硫酸钠(Na2S2O3)是一种重要的化工产品。某兴趣小组拟制备硫代硫酸钠晶体(Na2S2O3·5H2O)。
Ⅰ.【查阅资料】
(1)硫代硫酸钠(Na2S2O3)易溶于水,在中性或碱性环境中稳定,受热、遇酸易分解。
(2)Na2S2O3·5H2O是无色透明晶体,易溶于水,其稀溶液与BaCl2溶液混合无沉淀生成。
(3)向Na2CO3和Na2S混合溶液中通入SO2可制得Na2S2O3(反应方程式为:2Na2S+Na2CO3+ 4SO2===3Na2S2O3+CO2),所得产品常含有少量Na2SO3和Na2SO4。
Ⅱ.【制备产品】实验装置如图所示:
请回答下列问题:
(1)实验步骤:检查装置气密性后,向三颈瓶c中加入Na2CO3和Na2S的混合溶液,再将分液漏斗a中液体滴加到烧瓶b中加热发生反应产生SO2,请写出b中发生反应的化学方程式______________________。待Na2S和Na2CO3完全消耗后,结束反应。过滤c中的混合物,滤液经____________________(填写操作名称)、过滤、洗涤、干燥、得到产品。
(2) 装置A用于处理尾气,可选用的最合理装置(夹持仪器已略去)为________(填序号)。
(3)为了保证硫代硫酸钠的产量,实验中通入的SO2不能过量,原因是_________。
III.【测定产品纯度】
准确称取W g产品,用适量蒸馏水溶解,以淀粉作指示剂,用0.100 0 mol·L-1碘的标准溶液滴定。
反应原理为2S2O+I2===S4O
+2I-(忽略Na2SO3与I2反应)
(4)滴定至终点时,溶液颜色的变化:_________________________________。
(5)滴定起始和终点的液面位置如图,则产品的纯度为(设Na2S2O3·5H2O相对分子质量为M)______________。
IV.【探究与反思】
(6)为验证产品中含有Na2SO3和Na2SO4,该小组设计了以下实验方案,请将方案补充完整。(所需试剂从稀HNO3、稀H2SO4、稀盐酸、蒸馏水中选择)
取适量产品配成稀溶液,滴加足量BaCl2溶液,有白色沉淀生成, __________________,若沉淀未完全溶解,并有刺激性气味的气体产生,则可确定产品中含有Na2SO3和Na2SO4。
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科目:高中化学 来源: 题型:
从铝土矿(主要成分是Al2O3,含SiO2、Fe2O3、MgO等杂质)中提取氧化铝的两种工艺流程如下:
请回答下列问题:
(1)流程甲加入盐酸后生成Al3+的离子方程式为_____________________________________。
(2)流程乙加入烧碱后生成SiO的离子方程式为___________________________。
(3)验证滤液B中含Fe3+,可取少量滤液并加入________(填试剂名称)。
(4)滤液E、K中溶质的主要成分是__________(填化学式),写出该溶液的一种用途:___________。
(5)已知298 K时,Mg(OH)2的溶度积常数Ksp=5.6×10-12,取适量的滤液B,加入一定量的烧碱达到沉淀溶解平衡,测得pH=13.00,则此温度下残留在溶液中的c(Mg2+)=__________。
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科目:高中化学 来源: 题型:
常温下,某无色透明的溶液中,下列各组离子能够大量共存的是
A.H+、Na+、Cl-、CO32- B. Ba2+、Na+、SO42-、Cl-
C.MnO4-、K+、I-、H+ D. Mg2+、Cl-、NO、H+
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科目:高中化学 来源: 题型:
Na、Mg、Al三种金属各2 mol分别跟1L1mol∙L-1的盐酸反应时,相同条件下放出氢气体积最大的是
A.Al B. Mg C. Na D.三者产生的氢气一样多
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科目:高中化学 来源: 题型:
1.下列溶液一定呈中性的是( )
A.pH=7的溶液
B.[H+]=[OH-]的溶液
C.由强酸、强碱等物质的量反应得到的溶液
D.非电解质溶于水得到的溶液
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科目:高中化学 来源: 题型:
A、B、C为中学常见单质,其中一种为金属,通常情况下,A为固体,B为黄绿色气体,C为无色气体。D、E、F、G、H、X均为化合物,其中X常温下是无色气体,其水溶液是一种强酸,E为黑色固体,H在常温下为液体。它们之间的转化关系如下图所示(其中某些反应条件和部分反应物已略去)。
请回答下列问题:
(1)写出下列物质的化学式:A__________、D__________、E__________、X_________。
(2)在反应①~⑦中,不属于氧化还原反应的是__________(填编号)。
(3)反应④的离子方程式是_____________________________________________;
(4)反应⑦的化学方程式是_____________________________________________;
该反应中每消耗0.3 mol的A,可转移电子______mol。
(5)写出D的溶液与小苏打溶液反应的离子方程式是________________________
_____________________________________________________________________。
(6)除去D溶液中混有的少量G的方法是_________________________________
_____________________________________________________________________。
(7)在D溶液中制备无水D固体的方法是__________________________________
_____________________________________________________________________。
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科目:高中化学 来源: 题型:
硅单质及其化合物应用范围很广.
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,工业上可以按如下步骤制备纯硅.
Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450℃~500℃条件下反应制得SiCl4
Ⅲ.SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100℃~1200℃条件下反应制得纯硅
已知SiCl4沸点为57.6℃,能与H2O强烈反应.1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ.
请回答下列问题:
①第Ⅲ步反应的热化学方程式是______________________________________
_______________________________________________________________________。
②整个制备纯硅的过程中必须严格控制无水无氧.SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾,其生成物是____________;H2还原SiCl4过程中若混入O2,可能引起的后果是____________.
③上述生产过程所需氯气和氢气均由氯碱厂提供,氯碱厂的基本设备是离子交换膜电解槽(如图所示),其中进入阳极室的溶液是__________________________________,b电极上的电极
反应式是______________________________________________________.
(2)二氧化硅被大量用于生产玻璃.工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg,生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示,则其中x=________。
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