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二氧化硅、石灰石和纯碱(设均不含杂质),按质量比为18:5:5.3的比例混和,熔制得到玻璃,求玻璃中氧化物的质量百分组成?

 

答案:
解析:

三种反应物之间物质的量比: ==6:1:1

熔制玻璃过程有两个反应方程式:

熔制过程只放出二氧化碳气体,其他成分不变。硅酸盐的成分通常用氧化物的形式表示。氧化物的物质的量之比为:

SiO2:CaO:Na2O=6:1:1

氧化物的质量比为:

SiO2:CaO:Na2O=(6×60):(1×56) :(1×62)=360:56:62

氧化物总质量的份数:360+56+62=478(份)

质量百分组成为:

×100%≈75.3%

CaO:×100%≈11.7%

×100%≈13%

 


练习册系列答案
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科目:高中化学 来源: 题型:

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式_________________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是__________________(填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释_______________________________。

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科目:高中化学 来源: 题型:

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:

    (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

    ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式       

    ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式           ;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是                                

    (2)下列有关硅材料的说法正确的是         (填字母)。

      A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

      B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

      C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

      D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

      E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释         

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科目:高中化学 来源:2013学年江西省德兴一中、横峰中学、铅山一中、弋阳一中高一第三次月考化学试卷(带解析) 题型:填空题

(10分)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯制备高纯硅的化学方程式:                         
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。遇水剧烈反应生成、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为?                   ;还原过程中若混入可能引起的后果是?                 
(2)下列有关硅材料的说法正确的是?       (填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释                         

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科目:高中化学 来源:2016届吉林省高一上学期期末考试化学试卷(解析版) 题型:填空题

请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯制备高纯硅的化学方程式: ____________________________________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。遇水剧烈反应生成、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为___________________________;还原过程中若混入可能引起的后果是____________________________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是_________ (填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释                                                                                        

 

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科目:高中化学 来源:2013学年江西省、铅山一中、弋阳一中高一第三次月考化学试卷(解析版) 题型:填空题

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(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯制备高纯硅的化学方程式:                         

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。遇水剧烈反应生成、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为?                   ;还原过程中若混入可能引起的后果是?                 

(2)下列有关硅材料的说法正确的是?       (填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释                         

 

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