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在10L密闭容器中,1mol A和3mol B在一定条件下反应:A(气)+xB(气)?2C(气),2min后反应达到平衡时,测得混合气体共3.4mol,生成0.4mol C,则下列计算结果不正确的是(  )
A、平衡时,物质的量比A:B:C=2:11:4
B、x值等于4
C、B的平均反应速率为0.4 mol/(L?min)
D、A的转化率20%
考点:化学平衡的计算
专题:化学平衡专题
分析:依据化学平衡三段式列式计算,
                A(气)+xB(气)?2C(气),
起始量(mol)   1       3         0
变化量(mol)   0.2     0.2x      0.4
平衡量(mol)   0.8    3-0.2x     0.4
混合气体共3.4mol=0.8mol+(3-0.2x)mol+0.4mol
x=4,依据计算结果计算分析选项;
解答: 解:依据化学平衡三段式列式计算,
                A(气)+xB(气)?2C(气),
起始量(mol)   1       3         0
变化量(mol)   0.2     0.2x      0.4
平衡量(mol)   0.8    3-0.2x     0.4
混合气体共3.4mol=0.8mol+(3-0.2x)mol+0.4mol
x=4;
A、平衡时,物质的量比A:B:C=0.8:(3-0.8):0.4=4:11:2,故A错误;
B、计算可知x=4,故B正确;
C、B的平均反应速率=
0.2×4mol
10L
2min
=0.04 mol/(L?min),故C错误;
D、A的转化率=
0.2mol
1mol
×100%=20%,故D正确;
故选AC.
点评:本题考查了化学平衡的计算应用,主要是平衡浓度,反应速率,反应物转化率的分析应用,掌握基础是关键,题目较简单.
练习册系列答案
相关习题

科目:高中化学 来源: 题型:

兴趣小组在课外活动中,对某溶液进行了多次检测,其中三次检测结果如表所示,请回答:
检测次数 溶液中检测出的物质
第一次 KCl、K2SO4、Na2CO3、NaCl
第二次 KCl、BaCl2、Na2SO4、K2CO3
第三次 Na2SO4、KCl、K2CO3、NaCl
(1)三次检测结果中第
 
次检测结果不正确.
(2)在检测时,为了确定溶液中是否存在硫酸根离子、碳酸根离子和氯离子(提示:Ag2SO4微溶于水):
第一步:向溶液中滴加过量的
 
溶液,其目的是检验CO32-.并将其除去;
第二步:加入过量的Ba(NO32,其目的是
 

第三步:过滤,再向滤液中加入
 
溶液(填化学式),发生反应的离子方程式
 

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科目:高中化学 来源: 题型:

常温下,将100mL的0.02mol?L-1的Ba(OH)2溶液和100mL 的0.02mol?L-1的NaHSO4溶液混合,若忽略溶液体积变化,则混合后的溶液(  )
A、pH=2
B、pH=12
C、由水电离产生的c(H+)=1.0×10-2 mol?L-1
D、溶质的物质的量浓度为0.02 mol?L-1

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科目:高中化学 来源: 题型:

设NA代表阿伏加德罗常数,下列叙述正确的是(  )
A、标准状况下2.24L己烷中,分子数为0.1NA
B、22.4L Cl2含有Cl-Cl键数为NA
C、常温常压下16g O2和O3混合气体中,氧原子数为NA
D、7.8g Na2O2与足量水反应,转移电子数为0.2NA

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科目:高中化学 来源: 题型:

设NA为阿伏加德罗常数的值.下列叙述正确的是(  )
A、标准状况下,22.4L正丁烷和异丁烷的混合物中所含共用电子对数为14NA
B、常温常压下,15.0g甲醛与葡萄糖的混合物中含有氢原子的数目为NA
C、60g SiO2晶体所含Si-O键的数目为2NA,78 g苯含有C=C双键的数目为3NA
D、将CO2通过Na2O2使其增重a g时,反应中转移电子数为
aNA
14

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科目:高中化学 来源: 题型:

下列离子方程式中,正确的是(  )
A、稀硫酸滴在铁片上:2Fe+6H+=2Fe3++3H2
B、铜片插入硝酸银溶液中:Cu+Ag+=Cu2++Ag
C、碳酸氢钠溶液与稀盐酸混合:HCO3-+H+=H2O+CO2
D、氢氧化铜与稀硝酸混合:OH-+H+=H2O

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科目:高中化学 来源: 题型:

下列反应中,CO2作氧化剂的是(  )
A、Ca(OH)2+CO2═CaCO3↓+H2O
B、CO2+C
 高温 
.
 
2CO
C、2Fe2O3+3C
 高温 
.
 
4Fe+3CO2
D、C+2H2O
  △  
.
 
2H2+CO2

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科目:高中化学 来源: 题型:

质量相等的下列有机物充分燃烧耗氧量最大的是(  )
A、C2H6
B、C2H2
C、C4H6
D、C4H8

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科目:高中化学 来源: 题型:

请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式:
 

②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为
 
;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是
 

(2)下列有关硅材料的说法正确的是
 
 (填字母).
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡.写出实验现象并给予解释
 

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