练习册

  • 练习册
  • 试题
    精英家教网 > 高中化学 > 题目详情
    电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) 其△H（298K）== -94.0kJ·mol-1 △S(298K)== -75.8J·mol-1·K-1 设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应自发进行的温度条件。
    T＜1.24×103K
    练习册系列答案
    年级 高中课程 年级 初中课程
    高一 高一免费课程推荐！ 初一 初一免费课程推荐！
    高二 高二免费课程推荐！ 初二 初二免费课程推荐！
    高三 高三免费课程推荐！ 初三 初三免费课程推荐！
    相关习题

    同步练习册答案